Light is another environmental stim

Light is another environmental stimulus that can cause fluorescence change in CPs. UV
irradiation is a powerful energy source for photochemical reactions and an effective tool for RI
modulation and formation of photopatterns. Modulation of refractivity is a crucial technology in
optical data storage, and hence polymeric materials with tunable refractive indices are of great
interest. For example, polymeric sulfur-rich PVS 23c with silole moieties shows RI of
1.74401.6848 in the wavelength range of 600-1700 nm,Error! Bookmark not defined. whose values are
much higher than some commercial polymers [67]. It crosslinks in the presence of UV irradiation,
which has lowered its electronic conjugation and backbone’s polarizability as well as the RI
values. As illustrated in Figure 2C, after UV irradiation for 15 min, its RI drops by 0.1221.
Moreover, the UV-promoted photo-oxidation allows facile fabrication of well-resolved fluorescent
patterns. By UV irradiation of a uniform film of 23c coated on a silica wafer through a designed
nanoscale mask, the emission of the exposed parts (black lines) is photo-bleached, while that of
the covered areas remains unaltered. A fluorescent pattern with a high contrast is thus generated
(Figure 2D).

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

แสงเป็นอีกหนึ่งมาตรการกระตุ้นเศรษฐกิจด้านสิ่งแวดล้อมที่สามารถทำให้เกิดการเปลี่ยนแปลงในการเรืองแสง CPs รังสียูวีการฉายรังสีเป็นแหล่งพลังงานที่มีประสิทธิภาพสำหรับปฏิกิริยาเคมีและเครื่องมือที่มีประสิทธิภาพสำหรับ RI การปรับและการก่อตัวของ photopatterns ปรับ refractivity เป็นเทคโนโลยีที่สำคัญในการจัดเก็บข้อมูลแสงและวัสดุพอลิเมจึงมีดัชนีการหักเหของแสงพริ้งมีดีที่น่าสนใจ ยกตัวอย่างเช่น 23c PVS กำมะถันที่อุดมไปด้วยพอลิเมอกับ moieties silole แสดง RI ของ1.74401.6848ในช่วงความยาวคลื่นของ600-1,700 นาโนเมตรข้อผิดพลาด! bookmark ไม่ได้กำหนดไว้ ที่มีค่าเป็นสูงกว่าโพลิเมอร์เชิงพาณิชย์บาง [67] มัน crosslinks ในการปรากฏตัวของการฉายรังสียูวีที่ซึ่งได้ปรับลดการผันอิเล็กทรอนิกส์และpolarizability ของกระดูกสันหลังเช่นเดียวกับ RI ค่า ดังแสดงในรูปที่ 2C หลังจากการฉายรังสียูวีเป็นเวลา 15 นาทีลดลงโดยการ RI .1221. นอกจากนี้ยังมีภาพออกซิเดชั่ UV ช่วยให้การส่งเสริมการลงทุนผลิตสะดวกของความเรืองแสงการแก้ไขรูปแบบ โดยการฉายรังสียูวีของภาพยนตร์ชุด 23c เคลือบบนแผ่นเวเฟอร์ซิลิกาผ่านการออกแบบหน้ากากนาโน, การปล่อยชิ้นส่วนที่สัมผัสได้ (เส้นสีดำ) เป็นภาพฟอกขาวในขณะที่พื้นที่ที่ยังคงไม่เปลี่ยนแปลงปกคลุม รูปแบบการเรืองแสงที่มีความคมชัดสูงจึงถูกสร้างขึ้น(รูปแบบ 2 มิติ)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

แสงเป็นอีกสิ่งแวดล้อมกระตุ้นที่สามารถทำให้เกิดการเปลี่ยนแปลงใน CPS การฉายรังสี UV
เป็นแหล่งพลังงานที่มีประสิทธิภาพและปฏิกิริยาเคมีเป็นเครื่องมือที่มีประสิทธิภาพสำหรับการริ
และการก่อตัวของ photopatterns . ปรับ refractivity เป็นเทคโนโลยีที่สำคัญในการจัดเก็บข้อมูลออปติคอล
, และด้วยเหตุนี้วัสดุพอลิเมอร์กับพริ้ง ดัชนีหักเหความสนใจอย่างมาก

ตัวอย่างเช่นสารกำมะถันมั่งมี PVS 23C กับ silole ดังกล่าวแสดงริของ
1.7440  1.6848 ในช่วงความยาวคลื่นของ 600-1700 nm , ข้อผิดพลาด ! มาร์ค ไม่กำหนด ที่มีคุณค่าเชิงพาณิชย์บาง
สูงกว่าพอลิเมอร์ [ 67 ] มันเกิดในการแสดงตนของการฉายรังสี UV
ซึ่งมีการลดลงของอิเล็กทรอนิกส์และกระดูกสันหลังของ polarizability ตลอดจนริ
ค่า ดังแสดงในรูปที่ 2 C ,หลังจากการฉายรังสี UV เป็นเวลา 15 นาที หยดรีโดย 0.1221 .
และส่งเสริมให้สร้างรูปแบบ UV ง่ายดีแก้ไขเรืองแสง
ลวดลาย ยูวีด้วยการฉายของภาพยนตร์เครื่องแบบของ 23C เคลือบบนซิลิกา เวเฟอร์ ผ่านการออกแบบ
nanoscale หน้ากาก , การปล่อยก๊าซของการสัมผัสส่วน ( สายสีดำ ) เป็นภาพขาวโพลนที่ปกคลุมพื้นที่ในขณะที่
ยังคงไม่เปลี่ยนแปลง .ลวดลายเรืองแสงที่มีความคมชัดสูงถูกสร้างขึ้นดังนั้น

( รูปที่ 2 )