In the electroplating process, the

In the electroplating process, the rinse system generates large quantities of wastewater requiring treatment prior to disposal to municipal systems. The use of conventional water treatment systems is a challenge due to the presence of hazardous components. In addition, this does not solve the problem of the generation of rinse wastewater, but only treats it. Thus the focus was on point-source reduction technologies, specifically the application of a three-stage low flow counter current rinse for recovery of the rinse water in the plating bath, enabling close circuiting of the plating bath rinse system. However, recovery of the rinse water into the plating bath is impeded by the low rates of evaporation, especially in the low temperature plating baths. Alternative methodologies to heating were investigated to facilitate evaporation, with evaporative cooling being identified as the most feasible option. Evaporative cooling facilitates evaporation, whilst maintaining the plating bath temperature within the operational limits.

For the recovery of the rinse water in the plating bath, the rate of evaporation in the plating bath must be equivalent to the fresh make-up water requirements of the rinse tanks. The Closed Circuit Plating System (CCPS) model was developed to enable the proper design and/or implementation of an evaporative cooler; whereby the user specified inputs are evaluated in achieving the required evaporation rates for the recovery of the rinse water in the plating bath. The key characteristic of the CCPS model is the minimum requirement of proprietary plating solution specific information. The inputs for the model are chemical composition of the plating solution, flowrates, temperature and height of the cooling tower. The outputs from the model are evaporation rates and equilibrium temperatures of the plating bath and cooling tower. The primary limitation of the CCPS model is that it is based on an air–water system.

Single and multiple variable sensitivity analyses were performed on the plating plant operational parameters to determine their influence on close circuiting of the rinse plating system: plating solution composition and operational temperature; ambient air temperature; air flow rate and the surface area of the packing in the cooling tower. The results from the model indicated the upper limit plating solution operational temperature, high air flow rates, low ambient air temperature and large surface area of packing facilitated water evaporation rates and lower equilibrium temperatures in the plating bath and cooling tower.

The sensitivity analyses will allow the electroplater to optimise the operating conditions to achieve the required evaporation rates for recovery of the rinse water into the plating bath, while simultaneously maintaining the outputs of the electroplating plant and reducing the rinse wastewater generation to almost zero.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ในขั้นตอนการไฟฟ้า, ระบบล้างสร้างปริมาณมากของน้ำเสียที่ต้องการการรักษาก่อนที่จะมีการกำจัดระบบเทศบาล การใช้ระบบบำบัดน้ำเสียแบบเดิมเป็นสิ่งที่ท้าทายเนื่องจากมีส่วนประกอบที่เป็นอันตราย นอกจากนี้ไม่ได้แก้ปัญหาของรุ่นล้างน้ำเสีย แต่ถือว่าจึงมุ่งเน้นเป็นเทคโนโลยีการลดจุดแหล่งที่มาโดยเฉพาะการประยุกต์ใช้สามขั้นตอนการไหลต่ำเคาน์เตอร์ล้างปัจจุบันสำหรับการกู้คืนของน้ำล้างในอ่างชุบทำให้ลัดวงจรใกล้ชิดของระบบชุบน้ำล้าง แต่การฟื้นตัวของน้ำล้างลงชุบน้ำจะขัดขวางโดยอัตราต่ำของการระเหยโดยเฉพาะอย่างยิ่งในห้องอาบน้ำที่อุณหภูมิต่ำชุบ วิธีการทางเลือกในการให้ความร้อนได้รับการตรวจสอบเพื่อความสะดวกในการระเหยที่มีการระบายความร้อนระเหยที่ถูกระบุว่าเป็นตัวเลือกที่เป็นไปได้มากที่สุด อำนวยความสะดวกในการทำความเย็นแบบระเหยระเหยขณะที่การรักษาอุณหภูมิชุบน้ำภายในขอบเขตการดำเนินงาน.

สำหรับการกู้คืนของน้ำล้างในอ่างชุบ,อัตราการระเหยของน้ำในอ่างชุบจะต้องเทียบเท่ากับความต้องการของการแต่งหน้าน้ำจืดล้างถัง ระบบชุบวงจรปิด (ccps) รุ่นได้รับการพัฒนาเพื่อให้การออกแบบที่เหมาะสมและ / หรือการดำเนินงานของเครื่องทำความเย็นแบบระเหย;โดยปัจจัยการผลิตที่ผู้ใช้ที่ระบุได้รับการประเมินในการบรรลุอัตราการระเหยที่จำเป็นสำหรับการกู้คืนของน้ำล้างในอ่างชุบ ลักษณะที่สำคัญของรูปแบบ ccps เป็นความต้องการขั้นต่ำของข้อมูลเฉพาะการแก้ปัญหาการชุบกรรมสิทธิ์ ปัจจัยการผลิตสำหรับรูปแบบที่มีองค์ประกอบทางเคมีของการแก้ปัญหาการชุบ, flowrates,อุณหภูมิและความสูงของหอระบายความร้อน ผลจากแบบจำลองที่มีอัตราการระเหยและอุณหภูมิสมดุลของชุบน้ำและหอระบายความร้อน ข้อ จำกัด หลักของรูปแบบ ccps ก็คือว่ามันจะขึ้นอยู่กับระบบอากาศน้ำ.

ไวตัวแปรเดียวและหลายวิเคราะห์ได้ดำเนินการในโรงงานชุบพารามิเตอร์ในการดำเนินงานเพื่อตรวจสอบอิทธิพลของพวกเขาในใกล้ลัดวงจรของระบบล้างชุบ: ชุบองค์ประกอบการแก้ปัญหาในการดำเนินงานและอุณหภูมิอุณหภูมิอากาศแวดล้อม; อัตราการไหลของอากาศและพื้นที่ผิวของการบรรจุใน หอระบายความร้อนผลที่ได้จากแบบจำลองแสดงให้เห็นการแก้ปัญหาอุณหภูมิชุบขีด จำกัด บนการดำเนินงานอัตราการไหลของอากาศสูงอุณหภูมิอากาศต่ำและพื้นที่ผิวที่มีขนาดใหญ่ของการอำนวยความสะดวกในการบรรจุอัตราการระเหยของน้ำและอุณหภูมิที่ต่ำกว่าความสมดุลในอ่างชุบและหอระบายความร้อน.

ไววิเคราะห์จะช่วยให้ electroplater เพื่อเพิ่มประสิทธิภาพการเงื่อนไขการดำเนินงานเพื่อให้บรรลุอัตราการระเหยที่จำเป็นสำหรับการกู้คืนของน้ำล้างลงชุบน้ำพร้อมกันในขณะที่ยังคงรักษาผลของโรงงานไฟฟ้าและลดรุ่นล้างน้ำเสียไปเกือบเป็นศูนย์

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ในกระบวนการไฟฟ้า ระบบล้างสร้างขนาดใหญ่ปริมาณของน้ำเสียที่ต้องรักษาก่อนที่จะทิ้งระบบเทศบาล การใช้ระบบบำบัดน้ำทั่วไปเป็นสิ่งที่ท้าทายเนื่องจากส่วนประกอบที่เป็นอันตราย นอกจากนี้ นี้แก้ปัญหาการสร้างระบบบำบัดน้ำเสียล้าง ได้ปฏิบัติเท่านั้น ดังนั้น โฟกัสอยู่บนเทคโนโลยีลดแหล่งจุด ใช้ล้างปัจจุบันนับกระแสสามขั้นต่ำสำหรับการกู้คืนของน้ำล้างในห้องน้ำชุบ เปิดปิด circuiting ชุบน้ำล้างระบบโดยเฉพาะ อย่างไรก็ตาม impeded กู้น้ำล้างในอ่างชุบ โดยราคาต่ำสุดของการระเหย โดยเฉพาะอย่างยิ่งในอุณหภูมิต่ำชุบอาบน้ำ วิธีการอื่นเพื่อทำความร้อนถูกสอบสวนเพื่อระเหย ด้วยฟเป็นกำลังระบุเป็นตัวเลือกที่เป็นไปได้มากที่สุด ทำลมเย็นช่วยระเหย ในขณะที่รักษาอุณหภูมิน้ำชุบภายในดำเนินงานวงเงิน

สำหรับการฟื้นตัวของน้ำล้างในอ่างชุบ อัตราการระเหยในอ่างชุบต้องเท่ากับความต้องการน้ำจืดแต่งหน้าของถังล้าง แบบวงจรปิดชุบระบบ (CCPS) ได้รับการพัฒนาเพื่อเปิดใช้งานการออกแบบที่เหมาะสมและ/หรือดำเนินการทำลมเย็น โดยผู้ใช้ระบุ อินพุตจะถูกประเมินในบรรลุอัตราระเหยต้องการกู้คืนน้ำล้างในอ่างชุบ ลักษณะสำคัญของแบบจำลอง CCPS เป็นความต้องการขั้นต่ำของฟทร์แวร์ชุบโซลูชันข้อมูลเฉพาะ อินพุตสำหรับรูปแบบมีองค์ประกอบทางเคมีของโซลูชันการชุบ flowrates อุณหภูมิและความสูงของหอระบายความร้อน แสดงผลจากแบบจำลองมีอัตราการระเหยและอุณหภูมิสมดุลน้ำชุบและคูลลิ่งทาวเวอร์ ข้อจำกัดหลักของแบบจำลอง CCPS เป็นที่อยู่บนระบบการ air–water.

เดียวและการวิเคราะห์ความไวของตัวแปรต่าง ๆ ได้ดำเนินการในพารามิเตอร์การดำเนินงานโรงงานชุบเพื่อตรวจสอบอิทธิพลบน circuiting ล้างชุบระบบปิด: ชุบโซลูชันองค์ประกอบและอุณหภูมิปฏิบัติ อุณหภูมิอากาศแวดล้อม อัตราการไหลของอากาศและพื้นที่ผิวของบรรจุภัณฑ์ในหอระบายความร้อน ผลลัพธ์จากแบบจำลองที่ระบุขีดจำกัดชุบโซลูชันงานอุณหภูมิ อัตราการไหลอากาศสูง อุณหภูมิอากาศแวดล้อมต่ำ และพื้นที่ขนาดใหญ่บรรจุอัตราการระเหยน้ำสภาพปานกลางและอุณหภูมิสมดุลในน้ำชุบ และคูลลิ่งทาวเวอร์

วิเคราะห์ความไวจะทำให้ electroplater การอินพุทเงื่อนไขปฏิบัติเพื่อให้บรรลุอัตราระเหยต้องการกู้คืนน้ำล้างในอ่างชุบ ขณะที่ยังคงแสดงผลไฟฟ้าโรงงานและลดการสร้างน้ำเสียล้างเกือบเป็นศูนย์พร้อมกัน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ในกระบวนการ electroplating ที่ทำความสะอาดระบบจะสร้างโรงบำบัดน้ำเสียในปริมาณมากต้องใช้การบำบัดก่อนที่จะทำการทำลายทิ้งไปยังระบบเขตเทศบาล การใช้ระบบการบำบัดน้ำทั่วไปคือความท้าทายที่อาจเกิดขึ้นจากการมีส่วนประกอบเป็นอันตราย นอกจากนี้โรงแรมแห่งนี้ยังไม่สามารถแก้ไขปัญหาได้ในยุคที่การล้างทำความสะอาดโรงบำบัดน้ำเสียแต่เพียงความเพลิดเพลินใจได้จึงเน้นที่อยู่บนเทคโนโลยีจุด - แหล่งที่มาการปรับลดเฉพาะแอปพลิเคชันที่มีอยู่สามระดับต่ำการไหลของเคาน์เตอร์ที่ทำความสะอาดสำหรับการกู้คืนการล้างทำความสะอาดน้ำในอ่างอาบน้ำขูดขีดสารเคลือบที่ช่วยให้ลัดวงจรปิดของอ่างอาบน้ำขูดขีดสารเคลือบที่ล้างทำความสะอาดระบบ แต่ถึงอย่างไรก็ตามการกู้คืนการล้างน้ำในอ่างอาบน้ำขูดขีดสารเคลือบที่ถูกขัดขวางโดยอัตราค่าบริการระดับต่ำที่ระเหยโดยเฉพาะในอ่างอาบน้ำขูดขีดสารเคลือบ อุณหภูมิ ต่ำ. วืธีดำเนินงานมาตรฐานเพื่อเป็นทางเลือกเครื่องทำความร้อนเป็นการสอบสวนเพื่ออำนวยความสะดวกแก่ระเหยพร้อมด้วยระบบระบายความร้อนติตีรเศรษฐอธิการบดีที่ไม่สามารถระบุได้ว่าเป็นไปได้มากที่สุดที่ตัวเลือก เพิ่มความสะดวกในการระบายความร้อนติตีรเศรษฐอธิการบดีระเหยในขณะที่ยังคงรักษาไว้ซึ่ง อุณหภูมิ อ่างอาบน้ำขูดขีดสารเคลือบ ภายใน ขอบเขตการดำเนินงาน.

สำหรับการกู้คืนข้อมูลของล้างน้ำในอ่างอาบน้ำขูดขีดสารเคลือบนี้อัตราการระเหยในอ่างอาบน้ำขูดขีดสารเคลือบนี้จะต้องเทียบเท่ากับความต้องการน้ำทำให้ได้ความสดใหม่ของทำความสะอาดถังเก็บน้ำ ปิดระบบวงจรที่หล่อ( ccps )รุ่นได้รับการพัฒนาขึ้นเพื่อเปิดใช้งานการออกแบบที่เหมาะสมและ/หรือการนำไปใช้งานของอุปกรณ์ทำความเย็นที่ติตีรเศรษฐอธิการบดีซึ่งผู้ใช้ที่ระบุไว้อินพุตได้รับการประเมินว่าในการบรรลุถึงอัตราระเหยที่จำเป็นสำหรับการกู้คืนข้อมูลที่ทำความสะอาดของน้ำในอ่างอาบน้ำที่หล่อ ลักษณะสำคัญของรุ่น ccps ที่เป็นข้อกำหนดขั้นต่ำของโซลูชันหล่อเป็นเจ้าของข้อมูลเฉพาะ อินพุตสำหรับรุ่นที่มีส่วนประกอบทางเคมีของโซลูชันขูดขีดสารเคลือบที่ flowratesความสูงและ อุณหภูมิ ของหอคอยการระบายความร้อนได้ เอาต์พุตจากรุ่นที่มี อุณหภูมิ เข้าสู่จุดสมดุลและอัตราระเหยของหอคอยหล่ออ่างอาบน้ำและการระบายความร้อนได้ การจำกัดหลักของรุ่น ccps คือการที่ถูกใช้ในระบบปรับอากาศแบบน้ำที่.

คนเดียวและทำการวิเคราะห์ระดับความไวได้หลายระดับหลายคนก็ทำได้บนพารามิเตอร์การทำงานโรงงานขูดขีดสารเคลือบที่มีอิทธิพลต่อการตรวจสอบของตนที่เพลิงไหม้ใกล้กับการเปิดน้ำก๊อกไหลผ่านระบบสัดส่วนครึ่งต่อครึ่งที่หล่อและโซลูชันการเขียน อุณหภูมิ ในการทำงาน อุณหภูมิ ของอากาศแวดล้อมอัตราการไหลเวียนอากาศและพื้นที่ในการบรรจุอยู่ในหอคอยการระบายความร้อนได้ผลจากรุ่นที่ระบุด้านบนจำกัดขูดขีดสารเคลือบโซลูชันการทำงาน อุณหภูมิ ,อัตราการไหลของอากาศสูง, อุณหภูมิ แวดล้อม อุณหภูมิ อากาศต่ำและมีขนาดใหญ่พื้นบริเวณส่วนอำนวยความสะดวกของการบีบอัดน้ำระเหยและมีอัตราค่าบริการระดับต่ำกว่า อุณหภูมิ ในที่หล่ออ่างอาบน้ำและการระบายความร้อน Tower .

การวิเคราะห์ความไวแสงจะช่วยให้ electroplater ให้เหมาะสมกับ สภาพ การทำงานที่จะทำให้อัตราดอกเบี้ยระเหยที่จำเป็นสำหรับการกู้คืนข้อมูลของล้างทำความสะอาดน้ำที่เข้าไปในอ่างอาบน้ำขูดขีดสารเคลือบนี้ในขณะที่พร้อมกันการรักษาเอาต์พุตของโรงงานผลิต electroplating ที่ล้างทำความสะอาดและการลดรุ่นโรงบำบัดน้ำเสียที่แทบจะเป็นศูนย์