The phenomenon of adsorption – the

The phenomenon of adsorption – the accumulation of concentration at a
surface – is essentially an attraction of adsorbate molecules (a gaseous or
liquid component) to an adsorbent surface (a porous solid). Interaction
between adsorbate and adsorbent consists of molecular forces embracing
permanent dipole, induced dipole and quadrupole electrostatic effects,
otherwise known as van der Waal’s forces. The preferential concentration
of molecules in the proximity of a surface arises because the surface
forces of an adsorbent solid are unsaturated. Both short range (repulsive)
and longer range (attractive) forces between adsorbate and adsorbent
become balanced when adsorption occurs. For reasons which will be revealed
later, adsorption is nearly always an exothermic process. Physical
adsorption (as distinct from chemisorption involving the sharing or exchange
of electrons between adsorbate and adsorbent) of a gas or vapour
is normally characterized by the liberation of between 10 and 40 kJ mol–1
of heat which is close to values associated with heats of liquefaction of
gases. The heat evolved on adsorption of a solute onto a solid from a
liquid, however, is strongly dependent on the source and history of the
solid adsorbent. Nevertheless the heat evolved when a porous solid is
immersed in a liquid solvent containing an adsorbable solute is of the
same order of magnitude as the heat of adsorption of a saturated vapour
onto a porous solid

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ปรากฏการณ์ของการดูดซับ – สะสมของความเข้มข้นในการผิว – เป็นหลักที่น่าสนใจของ adsorbate โมเลกุล (ที่เป็นต้น หรือส่วนประกอบของเหลว) พื้นผิวเป็น adsorbent (ทึบ porous) โต้ตอบระหว่าง adsorbate adsorbent ประกอบด้วยโมเลกุลกองไพบูลย์ถาวร dipole, dipole อาจ และ quadrupole ผลสถิตหรือที่เรียกว่า van der Waal กองกำลัง ความเข้มข้นต้องของโมเลกุลในความใกล้ชิดของพื้นผิวเกิดขึ้นเนื่องจากพื้นผิวของแข็ง adsorbent การอยู่ในระดับที่สม ทั้งสองช่วงสั้น (repulsive)และกอง (น่าสนใจ) ช่วงยาวระหว่าง adsorbate adsorbentเป็นความสมดุลการดูดซับเกิดขึ้น เหตุผลที่จะถูกเปิดเผยภายหลัง ดูดซับได้เกือบเสมอกระบวนการ exothermic มีอยู่จริงดูดซับ (as distinct from chemisorption ที่เกี่ยวข้องกับการใช้ร่วมกันหรือแลกเปลี่ยนของอิเล็กตรอนระหว่าง adsorbate adsorbent) ของก๊าซหรือไอโดยปกติลักษณะ โดยการปลดปล่อยระหว่าง 10 และ 40 kJ โมล-1ความร้อนที่มีค่าที่เกี่ยวข้องกับ heats liquefaction ของก๊าซ ความร้อนที่พัฒนาบนของตัวถูกละลายลงในของแข็งจากการของเหลว อย่างไรก็ตาม เป็นอย่างยิ่งขึ้นอยู่กับแหล่งที่มาและประวัติของการadsorbent แข็ง อย่างไรก็ตาม ความร้อนพัฒนาเมื่อของแข็ง porousสัมผัสในเป็นของเหลวตัวทำละลายที่ประกอบด้วยตัว adsorbable เป็นการขนาดของใบสั่งเดียวกันเป็นความร้อนของการดูดซับของไออิ่มตัวบนของแข็ง porous

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ปรากฏการณ์ของการดูดซับ - การสะสมของความเข้มข้นที่
พื้นผิว - เป็นหลักที่ดึงดูดความสนใจของโมเลกุลดูดซับ (ก๊าซหรือ
องค์ประกอบของเหลว) เพื่อผิวดูดซับ (ของแข็งมีรูพรุน) ปฏิสัมพันธ์
ระหว่างดูดซับและตัวดูดซับประกอบด้วยโมเลกุลของกองกำลังกอด
ขั้วถาวรขั้วเหนี่ยวนำให้เกิดและผลกระทบไฟฟ้าสถิต quadrupole,
หรือที่เรียกว่ากองกำลัง van der Waal ของ ความเข้มข้นพิเศษ
ของโมเลกุลในความใกล้ชิดของพื้นผิวที่เกิดขึ้นเพราะพื้นผิวที่
กองกำลังของตัวดูดซับของแข็งไม่อิ่มตัว ทั้งช่วงสั้น ๆ (น่ารังเกียจ)
และช่วงอีกต่อไป (ที่น่าสนใจ) กองกำลังระหว่างดูดซับและตัวดูดซับ
กลายเป็นความสมดุลที่เกิดขึ้นเมื่อการดูดซับ สำหรับเหตุผลที่จะถูกเปิดเผย
ภายหลังการดูดซับเป็นเกือบตลอดกระบวนการคายความร้อน ทางกายภาพ
การดูดซับ (แตกต่างจากทางเคมีที่เกี่ยวข้องกับการใช้งานร่วมกันหรือแลกเปลี่ยน
ของอิเล็กตรอนระหว่างดูดซับและตัวดูดซับ) ของก๊าซหรือไอ
เป็นลักษณะตามปกติโดยการปลดปล่อยระหว่าง 10 และ 40 kJ mol-1
ของความร้อนซึ่งใกล้เคียงกับค่าที่เกี่ยวข้องกับความร้อนของ เหลวของ
ก๊าซ ความร้อนการพัฒนาในการดูดซับของตัวถูกละลายลงบนที่เป็นของแข็งจาก
ของเหลว แต่ขึ้นอยู่กับแหล่งที่มาและประวัติของการ
ดูดซับของแข็ง แต่ความร้อนที่เกิดขึ้นได้เมื่อมีรูพรุนแข็ง
แช่อยู่ในตัวทำละลายเป็นของเหลวที่มีตัวละลาย adsorbable เป็น
ลำดับเดียวกันของขนาดความร้อนของการดูดซับของไออิ่มตัว
บนมีรูพรุนที่เป็นของแข็ง

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ปรากฏการณ์ของการดูดซับและการสะสมของความเข้มข้นที่
ผิว–เป็นหลักเป็นสถานที่น่าสนใจของดูดซับโมเลกุลก๊าซหรือ
ส่วนประกอบของเหลว ) การดูดซับพื้นผิว ( แบบทึบ ) ปฏิสัมพันธ์ระหว่างดูดซับ
และประกอบด้วยโมเลกุลดูดซับแรงกอด
ขั้วคู่ถาวร ชักนำไดโพลกับผลคำ
ไฟฟ้าสถิต ,หรือที่เรียกว่า แวนเดอวาล์วของหน่วย สิทธิพิเศษของ
ของโมเลกุลในความใกล้ชิดของพื้นผิวเกิดขึ้นเนื่องจากผิวของตัวดูดซับของแข็ง
กําลังไม่อิ่มตัว ช่วง ทั้งในระยะสั้นและระยะยาว ( น่ารังเกียจ )
( มีเสน่ห์ ) กองกำลังระหว่างดูดซับและสารดูดซับ
กลายเป็นสมดุลเมื่อการเกิดขึ้น สำหรับเหตุผลที่จะเปิดเผย
ทีหลังการดูดซับเป็นเกือบเสมอกระบวนการคายความร้อน . การดูดซับทางกายภาพ
( ที่แตกต่างจากทางเคมีที่เกี่ยวข้องกับการแบ่งปันหรือแลกเปลี่ยน
ของอิเล็กตรอนระหว่างดูดซับและสารดูดซับ ) ของก๊าซหรือไอ
ปกติลักษณะการปลดปล่อยของระหว่าง 10 และ 40 kJ mol – 1
ความร้อนซึ่งใกล้เคียงกับค่าที่เกี่ยวข้องกับความร้อนของการแปรรูป
ก๊าซวิวัฒนาการในการดูดซับความร้อนของอุณหภูมิบนของแข็งจาก
เหลว อย่างไรก็ตาม ขอขึ้นอยู่กับแหล่งที่มาและประวัติของ
ตัวดูดซับของแข็ง แต่ความร้อนที่พัฒนาเมื่อแข็งที่มีรูพรุนเป็น
แช่ในของเหลวสารละลายที่มีตัวถูกละลาย adsorbable ของ
เดียวกันขนาดเพราะความร้อนของการดูดซับของไออิ่มตัว
ลงบนวัสดุแข็ง