air for the first target, Ar for th

air for the first target, Ar for the second one. Thin PVD coatings, deposited starting from the above mentioned targets, were analysed by means of SEM, XRD, XPS, and Hall effect, in order to correlate their characteristics with the target preparation process parameters.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

อากาศสำหรับเป้าหมายแรก Ar สำหรับสอง เริ่มต้นจากเป้าหมายดังกล่าวข้างต้น ถูก analysed เคลือบ PVD บาง ฝาก โดย SEM, XRD, XPS และ ผลฮอลล์ เพื่อเชื่อมโยงลักษณะของพวกเขา มีเป้าหมายเตรียมพารามิเตอร์กระบวนการ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

อากาศสำหรับเป้าหมายแรกเท่นที่สองหนึ่ง บางเคลือบ PVD, ฝากเริ่มต้นจากเป้าหมายดังกล่าวข้างต้นถูกนำมาวิเคราะห์โดยวิธีการของ SEM, XRD, XPS และผลฮอลล์เพื่อที่จะมีความสัมพันธ์ลักษณะของพวกเขาที่มีพารามิเตอร์ขั้นตอนการเตรียมเป้าหมาย

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

อากาศสำหรับเป้าหมายแรก AR สำหรับที่สอง เคลือบ PVD บาง , ฝากเงินตั้งแต่ข้างต้น กล่าวถึงเป้าหมาย วิเคราะห์โดยวิธี SEM , XRD , XPS , และฮอลล์ผล เพื่อให้สัมพันธ์กับลักษณะของกระบวนการจัดทำเป้าหมายค่า