The use of combined precursorsource

The use of combined precursor
sources has been extensively researched but is not in
common use for epitaxial device-quality material. One
reason for this is the difficulty in controlling the precursor
ratio that is needed to control the stoichiometry of
the material.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

การใช้สารตั้งต้นรวมแหล่งที่มีวิจัยอย่างกว้างขวาง แต่ไม่ใช่ในใช้ทั่วไปสำหรับวัสดุอุปกรณ์คุณภาพ epitaxial อย่างใดอย่างหนึ่งเหตุผลคือ ความยากในการควบคุมสารตั้งต้นอัตราส่วนที่จำเป็นเพื่อควบคุม stoichiometry ของวัสดุ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

การใช้สารตั้งต้นรวม
แหล่งที่มาได้รับการวิจัยอย่างกว้างขวาง แต่ไม่ได้อยู่ใน
การใช้งานทั่วไปสำหรับวัสดุอุปกรณ์ที่มีคุณภาพ epitaxial หนึ่ง
เหตุผลของเรื่องนี้คือความยากลำบากในการควบคุมสารตั้งต้นที่
อัตราส่วนที่จำเป็นในการควบคุมปริมาณสารสัมพันธ์ของ
วัสดุ