A hybrid system containing physical

A hybrid system containing physical vapor deposition (PVD) and metal plasma ion implantation (MPII) was used for TiO2 films

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ระบบไฮบริดที่ประกอบด้วยสะสมไอกายภาพ (PVD) และฝังไอออนโลหะพลา (MPII) ใช้สำหรับฟิล์ม TiO2

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ระบบไฮบริดที่มีการสะสมไอทางกายภาพ (PVD) และพลาสม่าไอออนโลหะฝัง (MPII) ถูกนำมาใช้สำหรับภาพยนตร์ TiO2

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เป็นระบบไฮบริดที่มีสะสมไอทางกายภาพ ( PVD ) และการปลูกฝังพลาสม่าไอออนโลหะ ( mpii ) ใช้ฟิล์ม )