GO silicon steel is one of the most

GO silicon steel is one of the most widely used as core material in transformers and exhibits excellent magnetic properties which are closed related to the sharpness {110} 〈001〉 (Goss) texture [1]. In the past decade, the focus of research in grain-oriented (GO) silicon steel was aimed at increasing magnetic induction and reducing iron loss without increasing the production cost, which has significant contribution in reducing electrical consumption and protecting the global environment [2] and [3]. Thin gauge GO silicon steel is an effective approach to meet the requirements of core material for high-frequency transformers, which has obvious advantages of high saturation magnetization over nanocrystalline materials, even though there are some difficulties associated with processing, particularly in terms of formability and stable secondary recrystallization [4], [5] and [6]. It is generally difficult to produce grain-oriented silicon steel sheets of thickness less than ~ 160 μm by secondary recrystallization induced by inhibitors, because the annealing atmosphere and surface condition have an obvious influence on the ripening of inhibitor [7]. Recent attempts to solve the dilemma have led to two primary approaches. The first approach is based on the retention of Goss texture, where secondary recrystallized silicon steel was rolled to less than 0.10 mm thick and subsequently annealed in vacuum to obtain sharp Goss texture [8] and [9]. The second approach involved multi-stage cold rolling with intermediate annealing and high temperature annealing of pure Fesingle bondSi hot rolled sheet. The driving force for selective grain growth of (110) [001] is the difference in surface energy between (110) and other planes, and is known as surface energy-induced tertiary recrystallization [10] and [11]. Unfortunately, these techniques are far from industrial applications on a large scale due to high production cost, the environmental impact and the limited product size of products fabricated in above approaches.

While a significant effort is being made to develop an appropriate process, a cost-effective process to produce thin gauge GO silicon steel with superior magnetic properties has not yet been developed and requires further research. In this regard, the novel advanced and energy-efficient process, strip casting technology, provides a promising possibility to produce steel that eliminates continuous casting, high temperature reheating, and multi-pass hot rolling, adopted during conventional processing [12], [13] and [14]. Strip casting progress has attracted significant attention to manufacture steels over the world and shows a great potential advantage in texture control over conventional process [15]. Most of the corresponding investigations focus on the fabrication technique of non-oriented or regular thickness GO silicon steel in the recent years [16], [17], [18] and [19]. Moreover, thin gauge GO silicon steel processed by strip casting process has not been explored to the best of our understanding.

In the present study, a 0.08–0.15 mm thick GO silicon steel with high permeability was successfully processed by strip casting, and involved normalizing, two-stage cold rolling with intermediate annealing, primary recrystallization and secondary recrystallization annealing. The evolution of microstructure, texture and effect of inhibitor are elucidated during different processing stages.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ไปซิลิคอนเหล็กเป็นหนึ่งในที่นิยมใช้เป็นวัสดุหลักในหม้อแปลง และนิทรรศการแม่เหล็กคุณสมบัติที่ดีเยี่ยมซึ่งจะเกี่ยวข้องกับเนื้อ {110} 〈001〉 (Goss) ความคมชัด [1] ในทศวรรษ จุดเน้นของการวิจัยในเชิงลายเหล็กซิลิคอน (GO) มุ่งเหนี่ยวนำแม่เหล็กที่เพิ่มขึ้น และลดการสูญเสียเหล็กโดยไม่ต้องเพิ่มต้นทุน การผลิตซึ่งมีส่วนสำคัญในการลดการใช้ไฟฟ้า และปกป้องสิ่งแวดล้อม [2] และ [3] บางวัดไปซิลิคอนเหล็กเป็นวิธีมีประสิทธิภาพเพื่อตอบสนองความต้องการของวัสดุหลักสำหรับหม้อแปลงความถี่สูง ซึ่งมีข้อดีชัดเจนสะกดจิตความเข้มสูงกว่าวัสดุ nanocrystalline แม้ว่าจะมีปัญหาบางอย่างที่เกี่ยวข้องกับการดำเนินการ โดยเฉพาะอย่างยิ่งในแง่ของการขึ้นรูปและเสถียรรอง recrystallization [4], [5] และ [6] โดยทั่วไปยากที่จะผลิตข้าวแปลกซิลิคอนเหล็กแผ่นความหนาน้อยกว่า ~ 160 ไมครอน โดย recrystallization รองเกิดจากสารยับยั้ง เนื่องจากบรรยากาศหลอมและสภาพพื้นผิวมีอิทธิพลต่อชัดเจนสุกยับยั้ง [7] ล่าพยายามแก้เขียงได้นำไปสู่แนวทางหลักสอง วิธีการแรกขึ้นอยู่กับการเก็บรักษาของ Goss เนื้อ ซึ่งถูกรีดเหล็กซิลิคอน recrystallized รองน้อยกว่า 0.10 มิลลิเมตรและต่อมาอบในสูญญากาศรับคม Goss เนื้อ [8] และ [9] วิธีสองเกี่ยวข้องกับหลายขั้นตอนการรีดเย็นหลอมกลางและอุณหภูมิการหลอมของบริสุทธิ์ Fesingle bondSi ร้อนรีดแผ่น แรงผลักดันเลือกเมล็ดเจริญเติบโตของ (110) [001] คือ ความแตกต่างในพลังงานพื้นผิวระหว่าง (110) และเครื่องบิน และอื่น ๆ เป็นที่รู้จักกันเป็นพื้นผิวที่เกิดพลังงานระดับตติยภูมิ recrystallization [10] [11] อับ เทคนิคเหล่านี้อยู่ห่างไกลจากอุตสาหกรรมขนาดใหญ่เนื่องจากต้นทุนการผลิตสูง ผลกระทบสิ่งแวดล้อม และขนาดจำกัดผลิตภัณฑ์ของผลิตภัณฑ์ที่ประดิษฐ์ในข้างต้นวิธีในขณะที่กำลังเกิดความพยายามอย่างมีนัยสำคัญในการพัฒนากระบวนการที่เหมาะสม กระบวนการประหยัดค่าใช้จ่ายในการผลิตบางวัดไปซิลิคอนเหล็กกล้าที่ มีคุณสมบัติเหนือกว่าเหล็กได้ไม่ได้รับการพัฒนา และต้องวิจัยเพิ่มเติม ในเรื่องนี้ นิยายขั้นสูง และกระบวนการประหยัดพลังงาน เทคโนโลยีการหล่อแผ่น แสดงความเป็นไปได้ที่แนวโน้มการผลิตเหล็กเพื่อกำจัดการหล่ออย่างต่อเนื่อง อุณหภูมิสูงที่อุ่นอาหาร และผ่านไปหลายร้อนกลิ้ง นำมาใช้ในระหว่างการประมวลผลทั่วไป [12], [13] [14] และ แถบความคืบหน้าหล่อได้ดึงดูดความสนใจที่สำคัญในการผลิตเหล็กทั่วโลก และแสดงดีมีศักยภาพในการควบคุมเนื้อกระบวนการทั่วไป [15] ส่วนใหญ่ของการสืบสวนที่เกี่ยวข้องมุ่งเน้นเทคนิคผลิตของ แปลกไม่ใช่ หรือปกติหนาไปซิลิคอนเหล็กในปี [16], [17], [18] [19] และ นอกจากนี้ บางวัดไปซิลิคอนเหล็กแถบการหล่อการประมวลผลได้ไม่ถูกสำรวจที่สุดของความเข้าใจในการศึกษาปัจจุบัน 0.08-0.15 มม.หนาไปซิลิคอนเหล็กกับซึมผ่านสูงถูกประมวลผลเรียบร้อยแล้ว โดยแถบหล่อ และ normalizing เกี่ยวข้อง สองขั้นตอนรีดเย็นหลอมระดับกลาง หลัก recrystallization และหลอม recrystallization รอง วิวัฒนาการของโครงสร้างจุลภาค เนื้อ และผลของการยับยั้งจะอธิบายในระหว่างขั้นตอนการประมวลผลที่แตกต่างกัน