Figure 2 | Characterization of nano

Figure 2 | Characterization of nano-SiO2 derived from RHs. a–c, SEM images of SiO2 obtained by heating raw or leached RHs at different temperature.
d,e, TGA (d) and DTA (e) profiles of raw and leached RHs measured under flow of simulated air (20% O2 in Ar) with a ramp rate of 5uC min21.
f, Statistical analysis of particle sizes of nano-SiO2 shown in (c) and nano-Si (Si-RH-5) reduced from it.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

รูปที่ 2 | คุณสมบัติของนาโน SiO2 มาจาก rhs ไม่ a–c, SEM ภาพของ SiO2 ได้ โดยความร้อน rhs ไม่ดิบ หรือ leached ที่อุณหภูมิแตกต่างกัน
d, e, TGA (d) และโพรไฟล์ DTA (e) ของวัตถุดิบ และ leached rhs ไม่วัดใต้ลมเลียนแบบ (20% O2 ใน Ar) กับอัตราลาดของ 5uC min21
f วิเคราะห์ทางสถิติของขนาดอนุภาคนาโน SiO2 แสดงใน (c) และนาโนซี (ซี-RH-5) ลดลงจากการ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

รูปที่ 2 | ลักษณะของนาโน SiO2 มาจาก RHS -C, ภาพ SEM ของ SiO2 ที่ได้รับจากความร้อน RHS ดิบหรือชะล้างที่อุณหภูมิที่แตกต่างกัน
D, E, TGA (ง) และ DTA (จ) โพรไฟล์ของ RHS ดิบและชะล้างวัดภายใต้การไหลของอากาศจำลอง (20% O2 ใน Ar ) มีอัตราการลาดของ 5uC min21
ฉ, การวิเคราะห์ทางสถิติของขนาดอนุภาคของนาโน SiO2 แสดงใน (ค) และนาโนศรี (ศรี-RH-5) ลดลงจากมัน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

รูปที่ 2 ลักษณะของ | nano-sio2 ได้มาจาก RHS . A ) C , SEM ภาพของ SiO2 ที่ได้รับความร้อนที่อุณหภูมิต่าง ๆดิบ หรือชะ RHS .
D , E , TGA ( D ) และ dta ( E ) โปรไฟล์ของวัตถุดิบและการไหลของจำลองวัดชะ RHS ภายใต้อากาศ ( 20 % O2 ใน AR ) กับทางลาดอัตรา 5uc min21 .
F , การวิเคราะห์ สถิติของขนาดอนุภาคของ nano-sio2 แสดงใน ( C ) และนาโนศรี ( si-rh-5 ) ลดลงจากมัน