Table 1Characteristics of silicon o

Table 1
Characteristics of silicon oxide (SiO2)-nanoparticles used in the experiments.
Nanostructures Si Nanoparticles
Thermogravimetric analysis (TGA) 5.0 ± 0.02
Inductively coupled plasma (ICP) 4.9 ± 0.09
Active surface area (m
2
g
−1
)
c
461
Purity percentage (%)
b
98
Nanostructures size (nm)
a
20–35
a
Estimated with electron microscopes such as SEM, AFM, and TEM.
b
Evaluated by methods such as TGA, ICP, etc.
c
Estimated by nitrogen adsorption isotherms.

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ตารางที่ 1
ลักษณะของซิลิกอนออกไซด์ (SiO2) -nanoparticles ใช้ในการทดลอง.
โครงสร้างนาโนศรีอนุภาคนาโนวิเคราะห์ Thermogravimetric (TGA) 5.0 ± 0.02 Inductively คู่พลาสม่า (ICP) 4.9 ± 0.09 พื้นที่ผิวที่ใช้งาน (m 2 กรัม-1) ค461 เปอร์เซ็นต์ความบริสุทธิ์ (%) ข98 โครงสร้างนาโนขนาด (นาโนเมตร) 20-35 ประมาณด้วยกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนเช่น SEM, AFM และ TEM. ขประเมินโดยวิธีการเช่น TGA, ICP ฯลฯ คโดยประมาณโดยการดูดซับไนโตรเจน isotherms

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ตารางที่ 1
ลักษณะของซิลิกอนออกไซด์ ( SiO2 ) - อนุภาคที่ใช้ในการทดลอง

เทอร์โมกราวิเมตริกการวิเคราะห์อนุภาคนาโนซี ( TGA ) 5.0 ± 0.02
อุปนัยคู่พลาสมา ( ICP ) 4.9 ± 0.09
งานพื้นที่ผิว ( เมตร
2
g
− 1
)
c

มีความบริสุทธิ์ร้อยละ ( % B )


ขนาด 98 นาโน ( nm )
A
20 – 35
A
) ด้วยกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอน เช่น SEM , AFM และ TEM .
b
การประเมินโดยวิธีการเช่น TGA , ICP , ฯลฯ
C
โดยประมาณ ไอโซเทอมการดูดซับไนโตรเจน .