Copper sulfide films have been depo

Copper sulfide films have been deposited using atomic layer deposition from the surface reaction of a copper
â-diketonate and hydrogen sulfide.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ฟิล์มทองแดงซัลไฟด์ได้รับฝากไว้ใช้สะสมชั้นอะตอมจากปฏิกิริยาที่ผิวของทองแดงâ diketonate และไฮโดรเจนซัลไฟด์

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ภาพยนตร์ซัลไฟด์ทองแดงได้รับการฝากโดยใช้การสะสมชั้นอะตอมปฏิกิริยาจากพื้นผิวของทองแดง
A-diketonate และไฮโดรเจนซัลไฟด์

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ฟิล์มทองแดงซัลไฟด์ได้ฝากการสะสมชั้นอะตอมจากผิวปฏิกิริยาของทองแดง
â - diketonate และไฮโดรเจนซัลไฟด์