Scanning electron micrographs were

Scanning electron micrographs were obtained with a Jeol JSM7500F. Images were acquired at an acceleration voltage of 2 kV and a working distance (WD) of about 8 mm, using a through-the-lens secondary electron detector. The freshly exposed surfaces of the samples were coated with a layer of 2–3 nm of Pt prior to the investigations. Analytical information was obtained
at 15 kV and at the same WD used for imaging through an Oxford Inca Energy Dispersive Spectroscopy System (EDS) using an XMax™ silicon drift detector (spatial resolution  2 lm). Using this equipment we were able to detect less than 2 mol% of P. Particle size measurements on SEM-images were performed using ImageJ™ software

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

Micrographs อิเล็กตรอนสแกนได้รับกับ Jeol JSM7500F ภาพที่ได้รับมาที่แรงดันการเร่ง 2 kV และระยะทำงาน (WD) ประมาณ 8 มม. ใช้เครื่องตรวจจับอิเล็กตรอนทุติยภูมิผ่านเลนส์ พื้นผิวสัมผัสสดตัวอย่างถูกเคลือบ ด้วยชั้นของนิวตันเมตร 2 – 3 Pt ก่อนการสืบสวน วิเคราะห์ข้อมูลที่ได้รับที่ 15 kV และ เวลาเดียวกัน WD ใช้สำหรับการถ่ายภาพผ่าน Oxford คาพลังงาน Dispersive สเปกโทรสโกระบบ (EDS) ใช้จับการดริฟท์ซิลิคอน XMax™ (lm ความละเอียดเชิงพื้นที่ 2) ใช้อุปกรณ์นี้เราได้มีการตรวจสอบการดำเนินการน้อยกว่า 2 โมล%ของการวัดขนาดอนุภาค P. ที่ SEM-ภาพโดยใช้ซอฟต์แวร์ ImageJ™

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

กล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบสแกนที่ได้รับกับ Jeol JSM7500F ภาพที่ได้รับมาในการเร่งความเร็วของแรงดันไฟฟ้า 2 กิโลโวลต์และระยะการทำงาน (WD) ประมาณ 8 มิลลิเมตรโดยใช้เครื่องตรวจจับอิเล็กตรอนผ่านเลนส์รอง พื้นผิวสัมผัสสดใหม่ของกลุ่มตัวอย่างที่ถูกเคลือบด้วยชั้น 2-3 นิวตันเมตร Pt ก่อนที่จะมีการตรวจสอบที่ วิเคราะห์ข้อมูลที่ได้รับ
อยู่ที่ 15 กิโลโวลต์และ WD เดียวกับที่ใช้สำหรับการถ่ายภาพผ่านฟอร์ด Inca กระจายพลังงานสเปก System (EDS) ใช้ xmax ™เครื่องตรวจจับซิลิกอนดริฟท์ (ความละเอียดเชิงพื้นที่ 2 LM) การใช้อุปกรณ์นี้เราสามารถที่จะตรวจสอบน้อยกว่า 2 mol% ของพีวัดขนาดอนุภาคใน SEM-ภาพถูกดำเนินการโดยใช้ซอฟแวร์ ImageJ ™