SPatterned papers were fabricated u

SPatterned papers were fabricated using previously described methods [42,47]. Briefly, the transparency film photomask was designed with Adobe Illustrator CS5 software (Adobe Systems, Inc.) and printed by Chaiyaboon Co. (Bangkok, Thailand). The filter paper was coated with 4 g of SU-8 negative photoresist using a spin coater (G3P-8). After baking at 95 ◦C for 10 min, the photomask was placed above the coated paper and exposed to ultraviolet (UV) light with 100% intensity for 10 s (Intelli-ray 400). Areas exposed with UV light remained hydrophobic whilst unexposed areas were hydrophilic. The exposed paper was baked at 95 ◦C for 10 min followed by soaking in the SU-8 developer and then isopropanol for 3 min each, respectively. Finally, the patterned paper was dried in a hood at room temperature (22±2 ◦C). Prior to use, paper microfluidic devices were exposed to air plasma (Harrick PDC-32G) for 2 min.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

SPatterned กระดาษถูกหลังสร้างโดยใช้วิธีการอธิบายไว้ก่อนหน้านี้ [42,47] สั้น ๆ photomask ฟิล์มโปร่งใสถูกออกแบบ ด้วยซอฟต์แวร์ Adobe Illustrator CS5 (Adobe ระบบ Inc.) และพิมพ์ โดยปรินิพพาน จำกัด (กรุงเทพมหานคร ประเทศไทย) กระดาษกรองถูกเคลือบ ด้วย 4 กรัมของ SU-8 ลบ photoresist ใช้ coater หมุน (G3P-8) หลังจากการอบที่ 95 ◦C สำหรับ 10 นาที photomask ที่เหนือกระดาษเคลือบ และสัมผัสกับแสงอัลตราไวโอเลต (UV) มีความเข้ม 100% 10 s (Intelli-เรย์ 400) พื้นที่สัมผัสกับแสง UV ยังคง hydrophobic ขณะพื้นที่ unexposed ถูก hydrophilic กระดาษสัมผัสถูกอบที่ 95 ◦C สำหรับ 10 นาทีตาม ด้วยการแช่ใน SU-8 สำหรับนักพัฒนา แล้ว isopropanol ใน 3 นาทีละ ตามลำดับ สุดท้าย กระดาษลวดลายถูกอบแห้งในควันที่อุณหภูมิห้อง (22±2 ◦C) ก่อนใช้ กระดาษ microfluidic อุปกรณ์ที่สัมผัสกับอากาศพลาสม่า Harrick PDC - 32 กรัมใน 2 นาที

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เอกสาร SPatterned ถูกประดิษฐ์โดยใช้วิธีการที่อธิบายไว้ก่อนหน้านี้ [42,47] สั้น ๆ , photomask ฟิล์มโปร่งใสได้รับการออกแบบด้วยซอฟต์แวร์ Adob​​e Illustrator CS5 (Adobe Systems, Inc) และพิมพ์โดยไชย จำกัด (กรุงเทพฯ, ประเทศไทย) กระดาษกรองที่ได้รับการเคลือบด้วย 4 กรัมลบ SU-8 ไวแสงโดยใช้ coater หมุน (G3P-8) หลังจากอบที่ 95 ◦Cเป็นเวลา 10 นาที, photomask ถูกนำมาวางบนกระดาษเคลือบและสัมผัสกับรังสีอัลตราไวโอเลต (UV) แสงที่มีความเข้ม 100% เป็นเวลา 10 วินาที (Intelli-ray 400) บริเวณที่สัมผัสกับแสงยูวียังคงไม่ชอบน้ำในขณะที่พื้นที่ยังไม่ได้ถ่ายเป็นน้ำ กระดาษสัมผัสได้รับการอบที่ 95 ◦Cเป็นเวลา 10 นาทีตามด้วยการแช่ในการพัฒนา SU-8 แล้ว isopropanol เป็นเวลา 3 นาทีในแต่ละลำดับ สุดท้ายกระดาษลวดลายที่แห้งในเครื่องดูดควันที่อุณหภูมิห้อง (22 ± 2 ◦C) ก่อนที่จะใช้อุปกรณ์ไมโครกระดาษได้สัมผัสกับอากาศพลาสม่า (Harrick PDC-32G) เป็นเวลา 2 นาที

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

spatterned เอกสารถูกประดิษฐ์โดยใช้วิธีการอธิบายไว้ก่อนหน้า [ 42,47 ] สั้น ๆ , ฟิล์มใสโฟโต้มาสค์ถูกออกแบบด้วยซอฟต์แวร์ Adobe Illustrator CS5 ( Adobe Systems , Inc . ) และพิมพ์โดย chaiyaboon Co . ( กรุงเทพฯ ) ไส้กรองกระดาษที่ถูกเคลือบด้วย 4 กรัมลบระบบใช้ SU-8 ปั่นเครื่องเคลือบ ( g3p-8 ) หลังจากอบที่ 95 ◦องศาเซลเซียส เป็นเวลา 10 นาทีโฟโต้มาสค์ที่วางอยู่เหนือกระดาษเคลือบและสัมผัสกับแสงอัลตราไวโอเลต ( UV ) 100% ความเข้ม 10 S ( intelli เรย์ 400 ) พื้นที่สัมผัสกับแสงยูวียังคงพื้นที่ ) ในขณะที่อิ่มถูกน้ำ . สัมผัสกระดาษอยู่ที่ 95 ◦อบนาน 10 นาที ตามด้วยการแช่ใน SU-8 ผู้พัฒนาและไอโซโพรพานอล 3 นาทีแต่ละ , ตามลำดับ ในที่สุดลวดลายกระดาษแห้งได้ในเครื่องดูดควันที่อุณหภูมิห้อง ( 22 ± 2 ◦ C ) ก่อนที่จะใช้อุปกรณ์ไมโครฟลูอิดิกกระดาษมีการเปิดรับอากาศพลาสม่า ( harrick pdc-32g ) เป็นเวลา 2 นาที