Control Of the motion device, gas f

Control Of the motion device, gas flow, and the power source is in a central contra system which may be computer driven. Nitrogen is usually used for high-current plasma systems; however, in some cases, 80% argon plus 20% hydrogen is used. The plasma gas should be matched to the work being cut.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ควบคุมของอุปกรณ์เคลื่อนไหว กระแสก๊าซ และแหล่งจ่ายไฟเป็นระบบตรงข้ามกับศูนย์กลางซึ่งอาจเป็นคอมพิวเตอร์ที่มีการขับเคลื่อน ระบบพลาสม่าสูงปัจจุบัน มักใช้ไนโตรเจน อย่างไรก็ตาม ในบางกรณี ไฮโดรเจนอาร์กอนบวก 20% 80% ใช้ ก๊าซพลาสม่าควรสอดคล้องกับการทำงานที่ถูกตัด

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

การควบคุมของอุปกรณ์การเคลื่อนไหว, การไหลของก๊าซและแหล่งพลังงานที่อยู่ในระบบทางตรงกันข้ามกลางซึ่งอาจจะเป็นคอมพิวเตอร์ที่ขับเคลื่อนด้วย ไนโตรเจนมักจะใช้สำหรับระบบพลาสม่าสูงในปัจจุบัน แต่ในบางกรณีอาร์กอน 80% บวกไฮโดรเจน 20% ใช้ ก๊าซพลาสมาควรได้รับการจับคู่การทำงานถูกตัด

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การควบคุมการเคลื่อนไหวอุปกรณ์ , การไหลของก๊าซและแหล่งพลังงานอยู่ในเซ็นทรัล ตรงข้ามระบบซึ่งอาจเป็นคอมพิวเตอร์ขับเคลื่อน ไนโตรเจนมักจะใช้สำหรับระบบพลาสม่าในปัจจุบันสูง อย่างไรก็ตาม ในบางกรณี บวก 20 % 80% อาร์กอนไฮโดรเจนที่ใช้คือ พลาสม่าแก๊สควรจะจับคู่กับงานถูกตัด