Nevertheless, the stress of the thi

Nevertheless, the stress of the thin filmswas reduced after annealing to+0.0005 GPa due to relaxation of the thin films that was caused by reduction of disruption initiated
by self-diffusion of atoms in the crystal lattice

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

แต่ ความเครียดของ filmswas บางลดลงหลังจากการหลอมไป + 0.0005 เริ่ม GPa เนื่องจากพักผ่อนฟิล์มบางที่เกิดจากการลดการหยุดชะงักโดยการแพร่ตัวของอะตอมในตาข่ายคริสตัล

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

แต่ความเครียดของ filmswas บางลดลงหลังจากการหลอมถึง + 0.0005 GPa เนื่องจากการผ่อนคลายของฟิล์มบางที่มีสาเหตุมาจากการลดลงของการหยุดชะงักริเริ่ม
ด้วยตนเองการแพร่กระจายของอะตอมในผลึกตาข่าย

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

อย่างไรก็ตาม ความเครียดกล่าวคือบางลดลงหลังอ่อน + 0.0005 GPA เนื่องจากการผ่อนคลายของฟิล์มที่เกิดจากการลดลงของการริเริ่มโดยการแพร่ตัวของอะตอมในผลึกตาข่าย