This paper describes a technique fo

This paper describes a technique for fabricating threedimensional,
metallic, pyramidal shells, the walls of which
have a thickness of ∼100 nm. This method uses as templates
pyramidal pits of uniform size formed in n-doped silicon by
anisotropic etching; electroplating using the silicon making
up the pits as the cathode led to selective growth of the
deposited metal. Subsequent dissolution of the silicon
substrate released the metallic pyramidal shells into suspension.
This work demonstrates a technique for the fabrication
of free-standing, metallic, pyramidal shells having a uniform
size and provides a route to another class of micro- or
nanostructure that is potentially useful for bottom-up selfassembly1-3
and for other uses in micro- and nanofabrication.
A limited number of shapes, including spheres, hemishells,
rods, prisms, and cubes, can be prepared as small
metal particles with uniform size.2-9 The use of templates
in the formation of metal structures with different shapes is
common: examples include mesoporous silica and zeolites
or anodic alumina membranes as template for fabricating
nanowires,4,10-12 nanowires or nanoparticles as templates for
fabricating tubular or shell structures,9,13-16 and others.17-19
We have described previously the fabrication of metallic halfshells
with diameters of 100-500 nm and walls that were
8-15 nm thick by e-beam evaporation deposition of a thin,
metal film onto an array of spherical silica colloids, followed
by dissolution of the colloidal template.2
Anisotropic etching of single-crystal silicon substrates has
been used extensively for fabricating sharp tips for atomic
force microscopy.20 Electroplating directly onto a dopedsilicon substrate without a seed layer has also been used for
the fabrication of metallic microstructures for microelectromechanical
systems (MEMS).21-23 The method described
here for fabricating free-standing, metallic, pyramidal shells
combines patterning and anisotropic etching of silicon with
electrodeposition. The method comprises three principal
steps: (i) fabrication of the pyramidal pits in the silicon
substrate; (ii) deposition of metal on the walls of these pits
by electroplating; (iii) dissolution of the silicon template to
generate free-standing, pyramidal, metal shells

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

บทความนี้อธิบายเทคนิคสำหรับ fabricating threedimensionalกระสุนโลหะ เสี้ยม ผนังที่มีความหนาของ ∼100 nm วิธีนี้ใช้เป็นแม่แบบหลุมเสี้ยมของขนาดในซิลิคอนเจือ n โดยแกะสลักศาตร์ ไฟฟ้าโดยใช้การทำซิลิโคนค่าหลุมเป็นแคโทดนำเลือกการเติบโตของการฝากโลหะ ต่อมายุบส่วนซิลิโคนจะพื้นผิวออกเปลือกโลหะเสี้ยมเข้าระงับงานนี้อธิบายเทคนิคสำหรับการผลิตของกระสุนแบบลอย โลหะ เสี้ยมมีเครื่องแบบขนาด และแสดงเส้นทางไปอีกหนึ่งระดับของไมโคร - หรือnanostructure ที่อาจมีประโยชน์สำหรับล่างสาย selfassembly1-3และอื่น ๆ ใช้ในไมโครและ nanofabricationจำนวนจำกัดของรูปทรง รวมทั้งทรงกลม hemishellsแท่ง ปริซึม ก้อน สามารถเตรียม และขนาดเล็กอนุภาคโลหะชุด size.2-9 การใช้แม่แบบในการก่อตัวของโครงสร้างโลหะที่มีรูปร่างแตกต่างกันคือทั่วไป: ตัวอย่างเช่นตัวซิลิก้าและซีโอไลต์หรือเยื่อหุ้มไลอลูมินาเป็นแม่แบบสำหรับการผลิตnanowires, 4, 10-12 nanowires หรือเก็บกักเป็นแม่แบบสำหรับผลิตโครงสร้างท่อ หรือเปลือก 9, 13-16 และ others.17 19เราได้อธิบายก่อนหน้านี้การผลิตของโลหะ halfshellsมีเส้นผ่าศูนย์กลาง 100-500 นาโนเมตรและกำแพงที่ถูกโดยลำแสงอีระเหยสะสมของให้บางหนา 8-15 nmฟิล์มโลหะลงในอาร์เรย์ของคอลลอยด์ซิลิกาทรงกลม ตามโดยการสลายตัวของ colloidal template.2มีการแกะสลักทางกายภาพของพื้นผิวของผลึกเดี่ยวซิลิคอนถูกใช้อย่างกว้างขวางสำหรับ fabricating เคล็ดลับคมสำหรับอะตอมmicroscopy.20 ไฟฟ้าบนพื้นผิวแบบ dopedsilicon โดยชั้นเมล็ดยังถูกนำมาใช้บังคับการผลิตของฟังก์โลหะสำหรับ microelectromechanicalอธิบายวิธีการระบบ (MEMS) .21-23ที่นี่สำหรับ fabricating หอยลอย โลหะ เสี้ยมรวมที่เลียนแบบและการแกะศาตร์ซิลิคอนด้วยเคลือบ วิธีการประกอบด้วย 3 หลักขั้นตอน: (i) ผลิตของหลุมเสี้ยมในซิลิโคนจะพื้นผิว (ii) การสะสมของโลหะบนผนังของหลุมเหล่านี้โดยไฟฟ้า (iii) การสลายตัวของแม่แบบซิลิโคนสร้างกระสุนลอย เสี้ยม โลหะ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

กระดาษนี้จะอธิบายเทคนิคสำหรับการผลิต threedimensional,
โลหะ, หอยเสี้ยมผนังที่
มีความหนาของ ~100 นาโนเมตร วิธีนี้จะใช้เป็นแม่แบบ
หลุมเสี้ยมของขนาดสม่ำเสมอที่เกิดขึ้นในซิลิคอน N-เจือโดย
การแกะสลัก anisotropic; ไฟฟ้าโดยใช้ซิลิกอนทำ
ขึ้นหลุมเป็นแคโทดนำไปสู่การเจริญเติบโตของการเลือกของ
โลหะฝาก การสลายตัวที่ตามมาของซิลิกอน
สารตั้งต้นปล่อยหอยเสี้ยมโลหะเข้าระงับ
งานนี้แสดงให้เห็นถึงเทคนิคในการผลิตเป็น
ของยืนฟรี, โลหะ, หอยเสี้ยมมีเครื่องแบบ
ขนาดและให้เส้นทางไปยังชั้นอื่นของไมโครหรือ
โครงสร้างระดับนาโนที่เป็นประโยชน์ที่อาจเกิดขึ้นสำหรับ selfassembly1-3 ล่างขึ้น
และอื่น ๆ สำหรับใช้ในไมโคร - และ Nanofabrication
จำนวน จำกัด ของรูปทรงรวมทั้งทรงกลม, hemishells,
แท่งปริซึมและก้อนสามารถเตรียมได้มีขนาดเล็ก
อนุภาคโลหะที่มีเครื่องแบบ size.2-9 การใช้แม่แบบ
ในการสร้างโครงสร้างโลหะที่มีรูปร่างที่แตกต่างกันเป็น
เรื่องธรรมดา: ตัวอย่าง ได้แก่ ซิลิกาเมโซพอรัสและซีโอไลต์
หรือเยื่ออลูมิขั้วบวกเป็นแม่แบบสำหรับการผลิต
เส้นลวดนาโน, 4,10-12 nanowires หรืออนุภาคนาโนเป็นแม่แบบสำหรับการ
ผลิตท่อหรือเปลือกโครงสร้าง 9,13-16 และ others.17-19
เราได้อธิบายไว้ก่อนหน้าการผลิตของโลหะ halfshells
มีเส้นผ่าศูนย์กลางตั้งแต่ 100-500 นาโนเมตรและผนังที่มี
8-15 นาโนเมตรหนาโดย e-คานปลดออกจากการระเหยของบาง
ฟิล์มโลหะลงบนอาร์เรย์ของคอลลอยด์ซิลิกาทรงกลมที่ตามมา
จากการสลายตัวของคอลลอยด์ template.2
Anisotropic แกะสลักเดียว พื้นผิวซิลิคอนคริสตัลได้
ถูกนำมาใช้อย่างกว้างขวางสำหรับการผลิตเคล็ดลับคมชัดสำหรับอะตอม
แรง microscopy.20 ไฟฟ้าโดยตรงลงบนพื้นผิวโดยไม่ต้อง dopedsilicon ชั้นเมล็ดยังได้ถูกนำมาใช้สำหรับ
การผลิตของจุลภาคโลหะสำหรับไมโครอิเล็กทรอนิกส์
Systems (MEMS) 0.21-23 วิธีการ อธิบายไว้
ที่นี่สำหรับการผลิตยืนฟรี, โลหะ, หอยเสี้ยม
รวมบรรเลงและ anisotropic แกะสลักของซิลิกอนที่มี
อิเล็กโทร วิธีการหลักประกอบด้วยสาม
ขั้นตอน: (i) การผลิตของหลุมเสี้ยมในซิลิคอน
ตั้งต้น; (ii) การสะสมของโลหะบนผนังของหลุมเหล่านี้
โดยการไฟฟ้า; (iii) การสลายตัวของแม่แบบซิลิกอนที่จะ
สร้างยืนฟรี, เสี้ยม, หอยโลหะ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

กระดาษนี้จะอธิบายถึงเทคนิคที่เกี่ยวกับ fabricating ,โลหะ , เสี้ยมเปลือกหอย ซึ่งผนังมีความหนา∼ 100 นาโนเมตร วิธีนี้ใช้เป็นแม่แบบเสี้ยมหลุมขนาด n-doped ซิลิคอนโดยตั้งขึ้นในเครื่องแบบAnisotropic แกะสลัก ; ชุบโลหะโดยใช้ซิลิกอนทำให้ขึ้นหลุมเป็นหลอด LED เพื่อการเลือกของฝากทำด้วยโลหะ การละลายที่ตามมาของซิลิคอนปล่อยหอยลงในพื้นผิวโลหะเสี้ยมระงับงานนี้แสดงให้เห็นถึงเทคนิคการผลิตของมีฟรี , โลหะ , เสี้ยมหอยมีเครื่องแบบขนาดและมีเส้นทางไปยังอีกชั้นหนึ่งของไมโคร - หรือโครงสร้างนาโนที่อาจเป็นประโยชน์สำหรับ selfassembly1-3 จากล่างขึ้นบนและสำหรับการใช้งานอื่น ๆในขนาดเล็กและ nanofabrication .จำกัดจำนวนของรูปทรงรวมทั้ง hemishells ทรงกลม ,แท่งปริซึม , ก้อน , สามารถเตรียมเป็นขนาดเล็กอนุภาคโลหะกับเครื่องแบบ size.2-9 ใช้แม่แบบในการสร้างโครงสร้างโลหะที่มีรูปร่างที่แตกต่างกันคือทั่วไป : ตัวอย่างเช่นเมโซพอรัสซิลิกา และซีโอไลต์หรือแผ่นอลูมินาเป็นแม่แบบสำหรับการสร้างนาโนหรือนาโน , นาโน 4,10-12 เป็นแม่แบบสำหรับสร้างท่อหรือเปลือก 9,13-16 others.17-19 และโครงสร้างเราได้อธิบายไว้ก่อนหน้านี้การผลิตของ halfshells โลหะขนาด 100-500 นาโนเมตรและผนังที่8-15 nm หนา e-beam การระเหยสะสมของบางโลหะฟิล์มลงในอาร์เรย์ของคอลลอยด์ซิลิกาทรงกลม ตามโดยการสลายตัวของแม่แบบ สเปรย์ 2สำหรับทิศทางของซิลิกอนผลึกเดี่ยว ) ได้ถูกใช้อย่างกว้างขวางสำหรับ fabricating เคล็ดลับที่คมชัดสำหรับอะตอมบังคับ microscopy.20 ด้วยไฟฟ้าโดยตรงลงบนพื้นผิว dopedsilicon ไม่มีเมล็ดพันธุ์ชั้นยังถูกใช้สำหรับการผลิตโครงสร้างโลหะสำหรับ microelectromechanicalระบบ ( MEMS ) 21-23 วิธีการอธิบายที่นี่บางยืนฟรี , โลหะ , หอยเสี้ยมรวมแบบกัดกรดซิลิคอนและทิศทางด้วยอิเล็กโทร . วิธีประกอบด้วยสามหลักขั้นตอน : ( 1 ) การสร้างหลุมเสี้ยมในซิลิคอน( 2 ) การสะสมของโลหะบนผนังของหลุมเหล่านี้โดยการชุบเคลือบด้วยไฟฟ้า ( 3 ) การสลายตัวของซิลิคอนแม่แบบสร้างที่สุด เสี้ยม หอยเหล็ก