แผนภาพการเกดsilicon nitride ในปฎกรยา
Reaction-bonding process.
Model by Atkinson et al.
(1976):
การเกด Silicon nitride โดยการเกดการ
เคลอนยาย silicon โดย evaporation-
condensation or surface
diffusion แลวทาปฎกรยากบกาซ Oxygen
ทาใหได SiO vapor ซงจะทาปฎกรยากบกาซ
N2 ไดเปน silicon nitride ทาใหเกดรพรน
กวางข
น และเกด silicon nitride รอบๆ
ภายในรพรนจะม N2 ดวย เมอปฎกรยาดาเนนไป ก
จะได silicon nitride ทเกดมากและป ดร
พรนเหลาน
น