Chemical vapor deposition (CVD) is

Chemical vapor deposition (CVD) is the process of chemically reacting a volatile compound of a material to be deposited, with other gases, to produce a nonvolatile solid that deposits atomistically on a suitably placed substrate.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

สะสมไอสารเคมี (ผิว CVD) เป็นกระบวนการของสารเคมีปฏิกิริยาสารประกอบระเหยของวัสดุที่จะนำฝาก กับก๊าซอื่น ๆ การผลิตแข็ง nonvolatile ที่ฝาก atomistically บนพื้นผิวที่วางไว้เหมาะสม

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ไอสารเคมีสะสม (CVD) เป็นกระบวนการของการทำปฏิกิริยาทางเคมีสารระเหยของวัสดุที่จะนำไปฝากไว้กับก๊าซอื่น ๆ เพื่อผลิต nonvolatile ของแข็งที่เงินฝาก atomistically บนพื้นผิวที่วางไว้อย่างเหมาะสม

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

chemical vapor deposition ( CVD ) คือกระบวนการทางเคมีเกิดเป็นสารระเหยของวัสดุที่จะฝากไว้กับก๊าซอื่น ๆเพื่อผลิต nonvolatile ของแข็งที่เงินฝาก atomistically วางไว้อย่างเหมาะสมบนพื้นผิว