Depending on the partial pressure o

Depending on the partial pressure of oxygen, the silicon atomization can occur by SiO2 or SiC2, whereas SiC2 is thermally stable and SiO2 unstable

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ขึ้นอยู่กับความดันบางส่วนของออกซิเจน แยกเป็นอะตอมซิลิคอนสามารถเกิดขึ้นได้ โดย SiO2 หรือ SiC2, SiC2 เป็นแพมั่นคงและเสถียร SiO2

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ทั้งนี้ขึ้นอยู่กับความดันบางส่วนของออกซิเจนอะตอมซิลิกอนสามารถเกิดขึ้นได้โดย SiO2 หรือ SiC2 ขณะ SiC2 เป็นความร้อนที่มีเสถียรภาพและ SiO2 ไม่แน่นอน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ขึ้นอยู่กับความดันบางส่วนของออกซิเจน ซิลิกอน ละอองสามารถเกิดขึ้นได้โดยพ่นหรือ sic2 ในขณะที่มีปริมาณซิลิกอนไดออกไซด์ sic2 ที่มั่นคงและเสถียร