By sputtering the targets at differ

By sputtering the targets at different rates any desired alloy composition can be attained.

Further, by varying either the sputtering rates, or the flow of reactive gas during deposition, composition, and, therefore, properties can be graded through the thickness of the coating.
In this manner, properties can be optimised , both at the coating/substrate interface for adhesion, and at the coating surface for the desired functionality

The production of
combines many of the features

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

โดยสปัตเตอร์เป้าหมายในอัตราที่ต่าง องค์ประกอบใด ๆ ที่ต้องการผสมสามารถบรรลุต่อไป โดยแปรผันอัตราสปัตเตอร์ หรือการไหลของแก๊สในปฏิกิริยาระหว่างสะสม ส่วนประกอบ และ จึง คุณสมบัติสามารถถูกอย่างช้า ๆ ผ่านความหนาของการเคลือบในลักษณะนี้ คุณสมบัติสามารถเพิ่ม ทั้ง ในอินเทอร์เฟซการเคลือบ/พื้นผิวสำหรับการยึดเกาะ และเคลือบพื้นผิวสำหรับการทำงานที่ต้องการการผลิตของรวมคุณสมบัติหลาย

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

โดยสปัตเตอร์เป้าหมายในอัตราที่แตกต่างกันองค์ประกอบโลหะผสมใด ๆ ที่ต้องการสามารถบรรลุ.

ต่อไปโดยที่แตกต่างกันทั้งอัตราสปัตเตอร์หรือการไหลของก๊าซปฏิกิริยาระหว่างการสะสมองค์ประกอบและมีคุณสมบัติสามารถอย่างช้า ๆ ผ่านความหนาของสารเคลือบผิวที่
ในลักษณะนี้คุณสมบัติที่สามารถเพิ่มประสิทธิภาพทั้งในอินเตอร์เฟซที่เคลือบ / สารตั้งต้นสำหรับการยึดเกาะและที่พื้นผิวเคลือบสำหรับการทำงานที่ต้องการ

การผลิต
รวมหลายคุณสมบัติ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

โดย sputtering เป้าหมายในอัตราที่แตกต่างกันใด ๆที่ต้องการผสมองค์ประกอบสามารถบรรลุเพิ่มเติม โดยกำหนดให้อัตราการสปัตเตอริง หรือการไหลของก๊าซในปฏิกิริยาขององค์ประกอบ และคุณสมบัติที่สามารถให้คะแนนผ่านความหนาของผิวเคลือบในลักษณะนี้ คุณสมบัติที่สามารถเพิ่มประสิทธิภาพทั้งในอินเตอร์เฟซที่เคลือบสำหรับการยึดเกาะ และที่ผิวเคลือบสำหรับฟังก์ชันที่ต้องการการผลิตของรวมหลายคุณสมบัติ