H2Gold surfaces were cleaned in a p

H
2
Gold surfaces were cleaned in a piranha solution (1:3 30%
O
2
/concentrated H
2
SO
4
) for 2 min before coating. The cleaned
gold surfaces were immersed into 2-propene-1-thiol (0.30 mM in
ethanol) for 24 h, in order to introduce thiol groups onto gold surface
of QCMelectrode. The electrode was then washed with ethanol
and deionized water for 10 min to remove the excess of thiols. Thus,
a stable self-assembled monolayer of thiol was formed on the gold
surface. Fig. 1a and b shows the Atomic Force Microscopy (AFM)
images of the gold and thiol-modified gold surface, in micrometer
scale, respectively. Standard silicon cantilevers (Quesant) with
a force constant ∼40 N/m, resonant frequency ∼137 kHz, and radius
of curvature

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

H2ผิวทองได้ถูกล้างไวรัสในโซลูชันปลาปิรันยา (1:3 30%O2/ เข้มข้น H2ดังนั้น4) สำหรับ 2 นาทีก่อนที่จะเคลือบ การทำความสะอาดผิวทองได้ไปเป็น 2-propene-1-thiol (0.30 mMเอทานอล) ใน 24 ชม การแนะนำกลุ่ม thiol ลงบนผิวทองของ QCMelectrode อิเล็กโทรดถูกล้างแล้ว ด้วยเอทานอลและ 10 นาทีเอาออกมากเกิน thiols น้ำ deionized ดังนั้นmonolayer ประกอบความมั่นคงของ thiol ก่อตั้งขึ้นในทองพื้นผิว Fig. 1a และ b แสดง Microscopy แรงอะตอม (AFM)ภาพทองคำทองและ thiol-modified ผิว ในไมโครมิเตอร์เครื่องชั่งน้ำหนัก ตามลำดับ Cantilevers ซิลิคอนมาตรฐาน (Quesant) ด้วยค่าคงแรง ∼40 N/m คงความถี่ ∼137 kHz และรัศมีของโค้ง < nmwere 10 ที่ใช้ ภาพภูมิประเทศและระยะได้รวบรวมกันในอัตราการสแกน 2 Hz ภายใต้ปฏิบัติการล้อมเงื่อนไขการ เห็นใน Fig. จัดในกลุ่ม thiol 1bผิวทองทั้งหมดการ polymerization ส่วนผสมของปฏิกิริยาที่ประกอบด้วยการ preorganizedน้ำยา [MA-Ade-ไทมีน] (0.01 mmol), crosslinkingน้ำยา (0.05 mmol, EDMA) และอุปกรณ (AIBN) ใน dimethyl sulfoxideเตรียมไว้ แล้ว degassed การผสมปฏิกิริยา และคั้นในเรียกใช้ allyl QCM เซ็นเซอร์ ก๊าซไนโตรเจนที่บริสุทธิ์ได้ลบเซลล์สำหรับ 5 นาทีต้องอพยพออกจากอากาศโดยสมบูรณ์ เนื่องจากของออกซิเจนจะห้ามการ polymerization Polymerizationมีดำเนินการที่อุณหภูมิห้องที่ใช้แสง UVวิธีการฉายรังสีสำหรับ h 4 ภายใต้บรรยากาศไนโตรเจน (Fig. 2) Fig. 1c แสดงAFMimages ของ [MA-Ade-ไทมีน] เคลือบทองหุงต มันสามารถจะเห็นว่า เซนเซอร์ของพอลิเมอร์ที่เคลือบมีพื้นผิวหยาบกว่าเซนเซอร์ thiol-modifiedเซนเซอร์ QCM ที่เคลือบ ด้วยพอลิเมอร์ไม่ติดตราแนะนำเตรียมในลักษณะคล้ายกับ MA Ade อ้างอิง ที่finally ล้าง ด้วย 0.5 M NaCl สำหรับต้นแบบถูกหุงตสกัด

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

H
2
พื้นผิวทองทำความสะอาดในการแก้ปัญหาปิรันย่า (1: 3 30%
O
2
/ เข้มข้น H
2
SO
4) เป็นเวลา 2 นาทีก่อนที่จะเคลือบ
ทำความสะอาดพื้นผิวทองถูกแช่ลงใน 2 โพรพี-1-thiol (0.30 มิลลิในเอทานอล) เป็นเวลา 24 ชั่วโมงในการสั่งซื้อที่จะแนะนำกลุ่ม thiol ทองลงบนพื้นผิวของQCMelectrode ขั้วไฟฟ้าถูกล้างแล้วกับเอทานอลและน้ำปราศจากไอออนเป็นเวลา 10 นาทีในการลบส่วนที่เกินจาก thiols ดังนั้นmonolayer ประกอบตัวเองมั่นคงของ thiol ที่ถูกสร้างขึ้นในทองพื้นผิว รูป 1a และ B แสดงกล้องจุลทรรศน์แรงอะตอม (AFM) ภาพของทองและสาย thiol-Modi เอ็ดพื้นผิวทองในไมโครเมตรขนาดตามลำดับ cantilevers มาตรฐานซิลิกอน (Quesant) ด้วยแรงคงไม่มี~40 / m ความถี่จังหวะ ~137 เฮิร์ทซ์และรัศมีของความโค้ง<10 nmwere ใช้ ภาพภูมิประเทศและเฟสที่ถูกเก็บรวบรวมพร้อมกันในอัตราที่สแกน 2 เฮิร์ตซ์ภายใต้การตรวจทางห้องปฏิบัติการโดยรอบเงื่อนไข เท่าที่เห็นในรูป 1b thiol กลุ่มที่มีการจัดในทั้งทองพื้นผิว. สำหรับพอลิเมอปฏิกิริยาส่วนผสมที่มี preorganized โมโนเมอร์ [MA-Ade-มีน] (0.01 มิลลิโมล) เชื่อมขวางโมโนเมอร์(0.05 มิลลิโมล, EDMA) และริเริ่ม (AIBN) ใน dimethyl sulfoxide WAS เตรียม จากนั้นผสมปฏิกิริยาถูก degassed และบีบallyl ในที่ทำงานโดยใช้เซ็นเซอร์ QCM ก๊าซไนโตรเจนบริสุทธิ์ได้รับการล้างเข้าไปในห้องขังเป็นเวลา 5 นาทีที่จะอพยพอากาศอย่างสมบูรณ์ตั้งแต่การปรากฏตัวของออกซิเจนจะห้ามพอลิเมอ พอลิเมอได้ดำเนินการที่อุณหภูมิห้องใช้แสงยูวีการฉายรังสีเป็นเวลา4 ชั่วโมงภายใต้บรรยากาศไนโตรเจน (รูปที่. 2) รูป 1c แสดงAFMimages ของ [MA-Ade-thymine] เคลือบขั้วทอง มันสามารถจะเห็นได้ว่าพอลิเมอเซ็นเซอร์เคลือบมีพื้นผิวที่ขรุขระกว่าสายthiol-Modi เซ็นเซอร์เอ็ด. เซ็นเซอร์ QCM เคลือบด้วยพอลิเมอที่ไม่ได้ตราตรึงใจก็ยังจัดทำในลักษณะที่คล้ายคลึงกับMA-Ade เป็นข้อมูลอ้างอิง ขั้วไฟฟ้าถูกไฟ Nally ล้างด้วย 0.5 M NaCl สำหรับแม่แบบการสกัด

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

H
2
ทองพื้นผิวสะอาดในน้ำยาปลาปิรันย่า ( 1 : 3 30 %
o
2
H

ดังนั้นเข้มข้น 2
4
) 2 นาทีก่อนเคลือบ ทำความสะอาดพื้นผิว
ทองถูกแช่ลงใน 2-propene-1-thiol ( 0.30 mm
เอทานอล ) ตลอด 24 ชั่วโมง เพื่อแนะนำกลุ่มขนาดลงบนพื้นผิวของทอง
qcmelectrode . ไฟฟ้ากำลัง แล้วล้างด้วยน้ำและเอทานอล
คล้ายเนื้อเยื่อประสาน 10 นาทีเพื่อลบส่วนเกินของ thiols . ดังนั้น
เป็นชั้นที่มีขนาดของควอนตัมดอตที่ก่อตั้งขึ้นบนผิวทอง

รูปที่ 1A และกล้องจุลทรรศน์แรงอะตอม B แสดง ( AFM )
รูปของทองและ thiol Modi จึงเอ็ด ทองผิว ในระดับไมโครเมตร
ตามลำดับ คานติลิเวอร์ซิลิคอนมาตรฐาน ( quesant )
แรงคงที่∼ 40 n / M , ความถี่เสียง∼ 137 กิโลเฮิรตซ์ และรัศมีความโค้งของ nmwere
< 10 ใช้ ภูมิประเทศและระยะภาพ
พร้อมเก็บที่อัตราการสแกน 2 Hz ภายใต้สภาวะห้องปฏิบัติการ
แวดล้อม ตามที่เห็นในรูป 1B ขนาดกลุ่มจัดใน

ทั้งทองผิว สำหรับพอลิเมอร์ ปฏิกิริยาผสมที่มี preorganized
โมโนเมอร์ ( มาเป็นไทยคม ] ( 0.01 มิลลิโมล )
( 0.05 มิลลิโมลของมอนอเมอร์ , การเชื่อม edma ) และปฏิกิริยา ( ไน ) ไดเมทิลซัลฟอกไซด์
ที่เตรียมไว้ จากนั้น