The γ polymorph forms at temperatur

The γ polymorph forms at temperatures below 500 °C through
the β→γ conversion [17]. This conversion involves a rotation of the
SiO4 tetrahedra and large movements of calciumatoms [20]with an accompanied
volume increase of 12% causing a break up into small
particles, a phenomenon known as “dusting” [17,21,22]. It is known
that the β→γ conversion can happen during or long after the cooling
[22], as well as that it can be stress-induced e.g. by grinding [17]. It is
also known that the β → γ conversion can be suppressed by rapid
cooling and/or by addition of suitable dopant ions such as boron [7].

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

แบบฟอร์ม polymorph γที่อุณหภูมิต่ำกว่า 500 ° C โดยใช้แปลงβ→γ [17] แปลงนี้เกี่ยวข้องกับการหมุนเวียนของการSiO4 tetrahedra และย้าย calciumatoms [20] ด้วยการมาพร้อมกับขนาดใหญ่เพิ่มปริมาณ 12% สาเหตุของการแบ่งค่าเป็นขนาดเล็กอนุภาค ปรากฏการณ์ที่เรียกว่า "ปัดฝุ่น" [17,21,22] เป็นที่รู้จักกันการแปลงβ→γอาจเกิดขึ้นระหว่าง หรือหลัง จากการทำความเย็นยาวนาน[22], เช่นเดียวกับที่ สามารถทำให้เกิดความเครียดเช่น ด้วยคัฟ [17] จึงเรียกอีก อย่างหนึ่งว่า สามารถระงับการแปลงγ→β โดยรวดเร็วระบายความร้อน และ/หรือ โดยการเพิ่มประจุ dopant เหมาะเช่นโบรอน [7]

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

รูปแบบ polymorph γที่อุณหภูมิต่ำกว่า 500
องศาเซลเซียสผ่านβ→แปลงγเมื่อ[17] การแปลงนี้จะเกี่ยวข้องกับการหมุนของ
tetrahedra SiO4 และการเคลื่อนไหวใหญ่ของ calciumatoms [20]
ที่มีมาพร้อมกับการเพิ่มขึ้นของปริมาณ12%
ทำให้เกิดการแบ่งออกเป็นขนาดเล็กอนุภาคปรากฏการณ์ที่เรียกว่า"ปัดฝุ่น" [17,21,22]
เป็นที่ทราบกันว่าการแปลงβ→γสามารถเกิดขึ้นได้ในระหว่างหรือนานหลังจากที่ระบายความร้อน
[22] เช่นเดียวกับการที่จะสามารถเช่นความเครียดที่เกิดจากการบด [17] มันเป็นที่รู้จักกันว่าการแปลงβ→γสามารถเก็บกดอย่างรวดเร็วการระบายความร้อนและ/ หรือการเพิ่มขึ้นของไอออนเจือปนที่เหมาะสมเช่นโบรอน [7]