Bare and modified silica NPs were s

Bare and modified silica NPs were synthesized via three different procedures. In all experiments the concentration of
TEOS as the precursor of NPs synthesis, the molar ratio of H2O/TEOS and ammonia concentration were kept constant in
0.25 mol/L, 38 and 0.5 mol/L, respectively. In order to synthesize the bare and PEG grafted silica NPs, similar procedures,
described in our previous published work [38], were applied. Brief explanations are given in the following paragraph.
Bare silica NPs were synthesized by one-pot/one-step sol-gel method. A solution containing 0.25 mol/L TEOS in 200 ml
EtOH was prepared by vigorously stirring at 65 C under nitrogen atmosphere. After 5 min, NH4OH and H2O were added.
The final solution was centrifuged at 12,000 rpm for 10 min and then rinsed by DI water and ethanol for several times to
ensure the removal of unreacted materials. The particles were dried at 75 C for 24 h to obtain the final NPs.
In order to synthesize PEG-g-silica NPs, in which PEG was used as the silane molecule modifier, the PEG/TEOS molar ratio
of 4/1 was utilized. In this regard, PEG was added dropwise into the reaction mixture, after the primary particles appeared in
the reaction mixture (about 5 min after adding NH4OH and H2O). Afterwards, the mixture was stirred vigorously for about
1 h and then separated, washed and dried according to the previously described procedure.
Finally, in order to synthesize PEG/vinyl-g-silica NPs, schematically shown in Fig. 1, the molar ratio of VTMS to TEOS was
kept constant at 1/9 according to Effati and Pourabbas [42] and Marini et al. [43] reports on one-pot synthesis method. In this
regard, VTMS was added dropwise to the reaction mixture after the solution became transparent due to the formation of
primary particles, which are indeed the reaction products of TEOS. After 5 min, PEG was added to the reaction vessel and
mixing continued for 60 min. Separation, washing and drying of the final product were carried out following a similar
pattern described previously.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เปลือย และแก้ไขซิ NPs ถูกสังเคราะห์ผ่านสามขั้นตอนแตกต่างกัน ในทุกความเข้มข้นของการทดลองการTEOS เป็นสารตั้งต้นของการสังเคราะห์ NPs อัตราส่วนโมเลกุลของ H2O/TEOS และแอมโมเนียความเข้มข้นที่ถูกเก็บไว้คงที่ใน0.25 mol/L, 38 และ 0.5 mol/L ตามลำดับ เพื่อสังเคราะห์เปลือย และ PEG ทาบซิ NPs ขั้นตอนที่คล้ายกันอธิบายในงานเผยแพร่ก่อนหน้านี้ [38] ถูกนำไปใช้ อธิบายไว้ในย่อหน้าต่อไปนี้ซิลิก้าเปลือย NPs ถูกสังเคราะห์ โดยหนึ่งหม้อ/หนึ่งขั้นตอนลเจ โซลูชันที่ประกอบด้วย 0.25 mol/L TEOS ในขนาด 200 มล.คะแนนจัดทำ โดยกวนแรง ๆ ที่ 65 C ภายใต้บรรยากาศไนโตรเจน หลังจาก 5 นาที NH4OH และ H2O ถูกเพิ่มทางออกสุดท้ายจากที่ 12,000 rpm 10 นาที และล้าง ด้วยน้ำ DI และเอทานอลสำหรับหลาย ๆ ครั้งเพื่อทำให้การกำจัดวัสดุ unreacted อนุภาคได้แห้ง 75 c เป็นเวลา 24 ชั่วโมงเพื่อขอรับ NPs ขั้นสุดท้ายเพื่อสังเคราะห์ NPs PEG-g-ซิลิก้า PEG ถูกใช้เป็นตัวปรับเปลี่ยนโมเลกุลไซเลน อัตราส่วนสบ PEG/การ TEOS4/1 ใช้ ในเรื่องนี้ PEG เพิ่ม dropwise ลงในส่วนผสมของปฏิกิริยา หลังจากอนุภาคหลักปรากฏในส่วนผสมของปฏิกิริยา (ประมาณ 5 นาทีหลังจากเพิ่ม NH4OH และ H2O) หลังจากนั้น ส่วนผสมกวนแรง ๆ สำหรับเกี่ยวกับ1 ชม.แล้วแยก ล้าง และอบแห้งตามขั้นตอนอธิบายไว้ก่อนหน้านี้ในที่สุด เพื่อสังเคราะห์ NPs PEG/ไวนิล-g-ซิลิก้า schematically แสดงในรูปที่ 1 อัตราส่วนสบของ VTMS การ TEOS ถูกkept constant at 1/9 according to Effati and Pourabbas [42] and Marini et al. [43] reports on one-pot synthesis method. In thisregard, VTMS was added dropwise to the reaction mixture after the solution became transparent due to the formation ofprimary particles, which are indeed the reaction products of TEOS. After 5 min, PEG was added to the reaction vessel andmixing continued for 60 min. Separation, washing and drying of the final product were carried out following a similarpattern described previously.

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เปลือยและการแก้ไข NPS ซิลิกาสังเคราะห์ผ่านสามขั้นตอนที่แตกต่างกัน ในการทดลองทุกความเข้มข้นของ
TEOS เป็นสารตั้งต้นของการสังเคราะห์ NPS ที่อัตราส่วนของ H2O / TEOS และความเข้มข้นของแอมโมเนียจะถูกเก็บไว้อย่างต่อเนื่องใน
0.25 mol / L, 38 และ 0.5 โมล / ลิตรตามลำดับ เพื่อสังเคราะห์เปลือยและ PEG NPS ทาบซิลิกาวิธีการที่คล้ายกัน
อธิบายไว้ในผลงานตีพิมพ์ของเราก่อนหน้านี้ [38], ถูกนำไปใช้ คำอธิบายสั้น ๆ จะได้รับในวรรคต่อไปนี้.
กรมอุทยานฯ ซิลิกาเปลือยถูกสังเคราะห์โดย / ขั้นตอนเดียววิธีโซลเจลหนึ่งหม้อ วิธีการแก้ปัญหาที่มี 0.25 mol / L TEOS ใน 200 มล.
EtOH ถูกจัดทำขึ้นโดยแรงกวนที่ 65 C ภายใต้บรรยากาศไนโตรเจน หลังจาก 5 นาที, NH4OH และ H2O ถูกเพิ่ม.
การแก้ปัญหาสุดท้ายก็หมุนเหวี่ยงที่ 12,000 รอบต่อนาทีเป็นเวลา 10 นาทีแล้วล้างออกด้วยน้ำ DI และเอทานอลหลาย ๆ ครั้งเพื่อ
ให้แน่ใจว่าการกำจัดของวัสดุ unreacted อนุภาคแห้งที่ 75 องศาเซลเซียสเป็นเวลา 24 ชั่วโมงเพื่อให้ได้ NPS สุดท้าย.
เพื่อที่จะสังเคราะห์ NPS PEG-G-ซิลิกาซึ่งใน PEG ถูกใช้เป็นตัวปรับแต่งไซเลนโมเลกุลที่อัตราส่วน PEG / TEOS
ของ 4/1 ถูกใช้ . ในเรื่องนี้ PEG ถูกบันทึกลงในส่วนผสม dropwise ปฏิกิริยาหลังจากที่อนุภาคหลักที่ปรากฏใน
ผสมปฏิกิริยา (ประมาณ 5 นาทีหลังจากที่เพิ่ม NH4OH และ H2O) หลังจากนั้นส่วนผสมที่ถูกกวนอย่างจริงจังประมาณ
1 ชั่วโมงจากนั้นแยกออกจากกันล้างและแห้งไปตามขั้นตอนที่อธิบายไว้ก่อนหน้านี้.
สุดท้ายเพื่อสังเคราะห์ PEG / NPS ไวนิล-G-ซิลิกาแสดงแผนผังในรูป 1, อัตราส่วนของ VTMS เพื่อ TEOS ถูก
คงที่ 1/9 ตาม Effati และ Pourabbas [42] และ Marini, et al [43] รายงานเกี่ยวกับวิธีการสังเคราะห์หนึ่งหม้อ ในการนี้
นับถือ VTMS ถูกบันทึก dropwise เพื่อผสมปฏิกิริยาหลังจากแก้ปัญหากลายเป็นโปร่งใสเนื่องจากการสะสมของ
อนุภาคหลักซึ่งแน่นอนผลิตภัณฑ์ปฏิกิริยาของ TEOS หลังจาก 5 นาที, PEG ถูกบันทึกอยู่ในเรือปฏิกิริยาและ
ผสมอย่างต่อเนื่องเป็นเวลา 60 นาที แยกซักผ้าและอบแห้งของผลิตภัณฑ์สุดท้ายได้ดำเนินการดังต่อไปนี้ที่คล้ายกัน
รูปแบบที่อธิบายไว้ก่อนหน้า

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เปลือยและซิลิกาที่สังเคราะห์โดยผ่านสามขั้นตอนที่แตกต่างกัน ในการทดลองความเข้มข้นของเป็นสารตั้งต้นของการสังเคราะห์เชื้อเพลิงเอท อัตราส่วนโมลของ H2O / TEOS และแอมโมเนียความเข้มข้นคงที่ใน0.25 mol / L , 38 และ 0.5 โมลต่อลิตร ตามลำดับ เพื่อสังเคราะห์เปล่าตรึงโดยซิลิกาโดยกระบวนการที่คล้ายกันอธิบายไว้ในก่อนหน้านี้ผลงานตีพิมพ์ [ 38 ] , ประยุกต์ คำอธิบายโดยย่อให้ในย่อหน้าต่อไปนี้เชื้อเพลิงที่สังเคราะห์จากซิลิกาเปลือยหม้อ / ขั้นตอนเดียวด้วยวิธี . โซลูชั่นที่มี 0.25 mol / L TEOS ใน 200 มล.แอลกอฮอล์ถูกเตรียมโดยชะมัดกวนที่ 65 องศาเซลเซียสภายใต้บรรยากาศไนโตรเจน หลังจาก 5 นาที nh4oh และ H2O มีการเพิ่มทางออกสุดท้ายคือระดับที่ 12 , 000 รอบต่อนาที เป็นเวลา 10 นาที แล้วล้างด้วยน้ำ DI และเอทานอลหลายครั้งให้เอาวัสดุเข้าสู่ . อนุภาคที่อุณหภูมิ 75 องศาเซลเซียส เป็นเวลา 24 ชั่วโมง เพื่อให้ได้แนวสุดท้ายเพื่อสังเคราะห์ peg-g-silica กฟผ. ซึ่งในตัวใช้เป็นเลนโมเลกุลที่หมุด / TEOS อัตราส่วนโดยโมล4 / 1 คือใช้ ในการนี้ เพ็ก ได้เพิ่ม dropwise เป็นปฏิกิริยาหลังการผสมอนุภาคที่ปรากฏในปฏิกิริยาผสม ( ประมาณ 5 นาทีหลังจากการเพิ่ม nh4oh และ H2O ) หลังจากนั้นส่วนผสมถูกกวนชะมัด ประมาณ1 H และแยกออกจากกันแล้ว ล้างและแห้งตามที่อธิบายไว้ก่อนหน้านี้ ขั้นตอนในที่สุด เพื่อสังเคราะห์เชื้อเพลิงที่หมุด / vinyl-g-silica , แสดงในรูปที่ 1 แผนผัง , อัตราส่วนโดยโมลของ vtms กับเอทคือเก็บค่าคงที่ 1 / 9 ตาม effati และ pourabbas [ 42 ] และมารินี่ et al . [ 43 ] รายงานหนึ่งหม้อการสังเคราะห์โดยวิธี ในนี้เรื่อง vtms เพิ่ม dropwise กับปฏิกิริยาผสมหลังจากโซลูชั่นกลายเป็นโปร่งใสเนื่องจากการก่อตัวของอนุภาคปฐมภูมิ ซึ่งแน่นอน ผลิตภัณฑ์ของปฏิกิริยาเอท . หลังจาก 5 นาที เพ็ก ได้เพิ่มเพื่อรับมือกับเรือผสมต่อเนื่อง 60 นาที แยกซักผ้าและอบแห้งของผลิตภัณฑ์สุดท้ายที่ได้ดำเนินการตามที่คล้ายกันแบบแผนที่อธิบายไว้ก่อนหน้านี้