were deposited by D.C. magnetron sp

were deposited by D.C. magnetron sputtering.
The sputtering targets were high-purity Pt–10%Rh (U100 mm, 99.99 wt.%) and Pt (U100 mm, 99.99 wt.%).

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ฝากไว้ โดยดีซีสปัตเตอร์ magnetron เป้าหมายสปัตเตอร์ได้บริสุทธิ์สูง Pt – 10% Rh (U100 มม. 99.99 wt.%) และ Pt (U100 มม. 99.99 wt.%)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

มีเงินโดยดีซีแมกนีตรอนสปัตเตอร์.
เป้าหมายสปัตเตอร์มีความบริสุทธิ์สูง PT-10% RH (U100 มิลลิเมตรน้ำหนัก 99.99.%) และ Pt (U100 มิลลิเมตรน้ำหนัก 99.99.%)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ดีซีแมกนีตรอนสปัตเตอร์ฝากเงินโดย .เป้าหมาย sputtering คือความบริสุทธิ์สูง EN – 10 เปอร์เซ็นต์ ( ลิมม. 99.99 % โดยน้ำหนัก ) และ PT ( ลิมม. 99.99 % โดยน้ำหนัก )