, then 1 m thick photoresist spin-

, then 1 m thick photoresist spin-coating, prebaking and photolithography were carried out.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

แล้ว photoresist หนา 1 เมตรหมุนเคลือบ prebaking และ photolithography ได้ดำเนินการ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

แล้ว 1 เมตรหนาไวแสงสปินเคลือบ prebaking photolithography และได้ดำเนินการ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

แล้ว 1  ม. หนาหมุนและระบบเคลือบ prebaking 43 พบว่า