were utilized since they are mechan

were utilized since they are mechanically adequate for heat treatments,
and they permit realization of annealing without atomic diffusion at the
interface between thin films and substrate

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

มีใช้เนื่องจากมีกลไกที่เพียงพอสำหรับการรักษาความร้อนและพวกเขาอนุญาตให้หลอมโดยไม่มีการแพร่กระจายของอะตอมที่ก่อให้เกิดการอินเตอร์เฟซระหว่างฟิล์มบางและพื้นผิว

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ถูกนำมาใช้ตั้งแต่พวกเขาเป็นกลไกที่เพียงพอสำหรับการรักษาความร้อน
และพวกเขาอนุญาตให้มีสำนึกของการอบโดยไม่ต้องแพร่อะตอมที่
เชื่อมต่อระหว่างฟิล์มบางและพื้นผิว

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เคยใช้ตั้งแต่พวกเขาเป็นกลไกที่เพียงพอสำหรับการรักษาความร้อนและพวกเขาอนุญาตให้มีการกระจายในการหลอมโดยอะตอมรอยต่อระหว่างพื้นผิวและฟิล์มบาง