We report optical parallel nanolith

We report optical parallel nanolithography
using bowtie apertures with the help of the interferometricspatial-
phase-imaging (ISPI) technique. The ISPI system
can detect and control the distance between the bowtie
aperture, and photoresist with a resolution of sub-nanometer
level. It overcomes the difficulties brought by the
light divergence of bowtie apertures. Parallel nanolithography
with feature size of 22 ± 5 nm is achieved. This
technique combines high resolution, parallel throughput,
and low cost, which is promising for practical applications.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เรารายงาน nanolithography แสงขนานมี bowtie ด้วยความช่วยเหลือของ interferometricspatial-ระยะภาพ (ISPI) เทคนิคการ ระบบ ISPIสามารถตรวจสอบ และควบคุมระยะห่างระหว่าง bowtieรูรับแสง และ photoresist กับความละเอียดของ nanometer ย่อยระดับ มัน overcomes ความยากลำบากโดยการแสง divergence bowtie มี Nanolithography ขนานคุณลักษณะ ขนาด 22 ± 5 nm ที่ทำ นี้ความละเอียดสูง สูงขนาน รวมเทคนิคและต้นทุนต่ำ ซึ่งเป็นแนวโน้มสำหรับประยุกต์ใช้งานจริง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เรารายงานแสงขนาน nanolithography
ใช้ช่อง bowtie ด้วยความช่วยเหลือของ interferometricspatial-
เฟสการถ่ายภาพ (ISPI) เทคนิค ระบบ ISPI
สามารถตรวจสอบและควบคุมระยะห่างระหว่าง bowtie
รูรับแสงและไวแสงที่มีความละเอียดย่อยนาโนเมตร
ระดับ มันเอาชนะความยากลำบากมาโดย
ความแตกต่างของแสงช่อง bowtie nanolithography ขนาน
ที่มีขนาดคุณสมบัติของ 22 ± 5 นาโนเมตรจะประสบความสำเร็จ นี้
เทคนิคการผสมผสานความละเอียดสูงผ่านขนาน
และต้นทุนต่ำซึ่งเป็นแนวโน้มสำหรับการใช้งานจริง

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เรารายงานสดแสงขนานนาโนลิโทกราฟี
ใช้แสงด้วยความช่วยเหลือของ interferometricspatial -
ระยะภาพ ( ispi ) เทคนิค ระบบ ispi
สามารถตรวจสอบและควบคุมระยะห่างระหว่าง bowtie
รูรับแสง และระบบที่มีความละเอียดระดับนาโน
ซบ มัน overcomes ปัญหานำโดย
แสงสดความแตกต่างของแสง .
นาโนลิโทกราฟีแบบขนานกับคุณลักษณะของ±ขนาด 22 5 นาโนเมตรได้ เทคนิคนี้
ผสมผสานความละเอียดสูง throughput ขนาน
ราคาต่ำซึ่งเป็นสัญญาสำหรับการใช้งานในทางปฏิบัติ