Fig. 6. Schematic representation fo

Fig. 6. Schematic representation for three types of curvatures for silicon substrates with different stress types: (a) uncoated silicon substrate, (b) coated silicon substrate under tensile
stress (concave curvature), and (c) coated silicon under compressive stress (convex curvature).

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

รูป 6 แผนผังตัวได้สำหรับพื้นผิวซิลิโคนชนิดสามชนิดความเครียดแตกต่างกัน: ซิลิคอน (ก) เคลือบผิวพื้น พื้นผิวการเคลือบ (b) ซิลิคอนภายใต้แรงดึงความเครียด (เว้าโค้ง), และ (c) เคลือบซิลิคอนภายใต้ความเค้นอัด (โค้งนูน)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

มะเดื่อ. 6. แผนผังแสดงสำหรับสามประเภทของพื้นผิวโค้งสำหรับซิลิคอนชนิดความเครียดที่แตกต่างกัน (ก) พื้นผิวเคลือบซิลิกอน (ข) พื้นผิวเคลือบซิลิกอนภายใต้แรงดึง
ความเครียด (โค้งเว้า) และ (ค) เคลือบซิลิกอนภายใต้ความเครียดอัด (ความโค้งนูน )

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

รูปที่ 6 การแสดงแผนผัง 3 ชนิด 1 จุดสำหรับพื้นผิวที่มีความเครียดแตกต่างกันประเภทซิลิคอน ( ) เคลือบพื้นผิวซิลิกอน ( ข ) เคลือบซิลิคอนภายใต้แรงดึงความเครียด ( เว้าความโค้ง ) และ ( c ) ซิลิคอนเคลือบภายใต้แรงอัด ( นูนโค้ง )