It has been determined that applyin

It has been determined that applying direct plasma to the parts to be nitrided was not really
necessary. It is sufficient to generate plasma somewhere in the vacuum chamber and create
a gentle flow to bring the ions or excited neutrons over the workload. In active screen
plasma nitriding process, the plasma glow discharge is moved from the components to be
treated onto the metal screen (active screen) surrounding the entire workload. The
worktable and the parts are placed in a floating potential or subject to a relatively low
negative voltage.



This screen operates as a cathode and on the other hand, the furnace wall serves as an
anode. Under these conditions, the plasma is produced on the screen. The active screen with
the glowing plasma on the one hand produces a mixture of active species required for the
nitriding process; on the other hand it serves as a hot wall, which transfers the heat
produced by the plasma discharge to the workload resulting in a uniform temperature
distribution over the parts even with highly different geometry. Due to replacement of the
glow discharge from the components surface many possible damages caused by hollowcathode
and edge effects, arcing and non-uniform nitriding results owing to unequal
temperature distribution can be avoided [4].
Uniform nitriding response was achieved on an industrial ASPN set-up only when
additional energetic activation in terms of cathodic bias power to the component parts to be
treated was applied. The amount of bias power was tuned to the value of 10-15% of the
actual active screen power. The nitriding efficiency for component parts set under floating
potential is strongly reduced with increasing distance from the active screen. Therefore, the
application of bias activation in industrial scale furnaces provides successful nitriding
results offering more active nitrogen species at the component’s surfaces. For a uniform
nitriding a sufficient bias activation is necessary. The latter depends on the size of furnace
and on the process pressure. The application of the bias power above 15% did not show any
significant improvement of nitriding results, based on the data of edge hardness tests and
nitriding depth profiles [4].

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ได้รับการกำหนดใช้พลาสมาโดยตรงไปยังส่วนการขัดไนไตรด์ว่าไม่จริง ๆจำเป็น มันเพียงพอที่จะสร้างพลาที่ใดที่หนึ่งในห้องสุญญากาศ และสร้างกระแสอ่อนโยนนำไอออน หรือตื่นเต้นนิวตรอนมากกว่าปริมาณงาน ในหน้าจอที่ใช้งานอยู่พลาสม่า nitriding กระบวนการ การปล่อยแสงพลาสม่าจะถูกย้ายจากส่วนจะรักษาบนโลหะหน้าจอ (ใช้งานอยู่หน้าจอ) โดยรอบปริมาณงานทั้งหมด การโต๊ะทำงานและส่วนที่อยู่ ในศักยภาพลอย หรือ มีค่อนข้างต่ำแรงดันไฟฟ้าลบหน้าจอนี้ทำงานเป็นเป็นแคโทด และคง ผนังเตาเป็นการขั้วบวก ภายใต้เงื่อนไขเหล่านี้ มีผลิตพลาสม่าบนหน้าจอ หน้าจอใช้งานด้วยพลาสม่าเร่าร้อนมือผลิตส่วนผสมของสายพันธุ์ใช้งานที่จำเป็นสำหรับการกระบวนการ nitriding บนมืออื่นๆ มันทำหน้าที่เป็นผนังร้อน ซึ่งถ่ายโอนความร้อนผลิต โดยการปล่อยพลาสมาเพื่อปริมาณงานที่ส่งผลให้อุณหภูมิสม่ำเสมอการกระจายส่วนแม้จะมีรูปทรงแตกต่างกันสูง เนื่องจากการแทนที่ของการเรืองแสงออกจากผิวส่วนประกอบที่หายไปได้หลายสาเหตุ โดย hollowcathodeและขอบผล ผล nitriding arcing และไม่สม่ำเสมอเนื่องจากไม่เท่ากันการกระจายอุณหภูมิสามารถหลีกเลี่ยง [4]ตอบสนอง nitriding ชุดสำเร็จในการตั้งค่า ASPN อุตสาหกรรมเมื่อเรียกใช้พลังเพิ่มเติมในแง่ของ cathodic bias อำนาจส่วนประกอบจะถือว่าใช้ จำนวน bias พลังงานถูกปรับค่าของ 10-15% ของการไฟหน้าจอใช้งานจริง ประสิทธิภาพ nitriding สำหรับส่วนประกอบที่กำหนดภายใต้น้ำศักยภาพจะขอลดลงกับระยะทางจากหน้าจอการใช้งานที่เพิ่มขึ้น ดังนั้น การโปรแกรมเปิดใช้ bias ในระดับอุตสาหกรรมเตาเผาให้สำเร็จทำไนไตรด์ผลให้ใช้งานเพิ่มเติมไนโตรเจนชนิดที่พื้นผิวของส่วนประกอบ สำหรับเครื่องแบบnitriding การเรียกใช้ bias ที่เพียงพอเป็นสิ่งจำเป็น หลังขึ้นอยู่กับขนาดของเตาและความดันกระบวนการ แอพลิเคชันของพลังงานสูงกว่า 15% bias ไม่แสดงใด ๆปรับปรุงที่สำคัญผลการ nitriding ตามข้อมูลการทดสอบความแข็งขอบ และnitriding โปรไฟล์ลึก [4]

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

จะได้รับการพิจารณาแล้วว่าการใช้พลาสม่าโดยตรงไปยังส่วนที่จะได้รับไนไตรด์ไม่ได้จริงๆ
ที่จำเป็น มันเพียงพอที่จะสร้างพลาสม่าที่ไหนสักแห่งในสุญญากาศและสร้าง
กระแสอ่อนโยนที่จะนำไอออนหรือนิวตรอนตื่นเต้นกว่าภาระงาน ในหน้าจอที่ใช้งาน
กระบวนการไนไตรด์พลาสม่าปล่อยเรืองแสงพลาสม่าจะถูกย้ายจากส่วนประกอบที่จะ
ได้รับการปฏิบัติบนหน้าจอโลหะ (หน้าจอใช้งาน) รอบภาระงานทั้งหมด
โต๊ะทำงานและชิ้นส่วนที่มีอยู่ในศักยภาพลอยหรือเรื่องที่ค่อนข้างต่ำ
แรงดันไฟฟ้าในเชิงลบ.



หน้าจอนี้จะทำงานเป็นแคโทดและบนมืออื่น ๆ , ผนังเตาทำหน้าที่เป็น
ขั้วบวก ภายใต้เงื่อนไขเหล่าพลาสม่าที่ผลิตบนหน้าจอ หน้าจอที่ใช้งานกับ
พลาสม่าที่เร่าร้อนบนมือข้างหนึ่งผลิตส่วนผสมของสายพันธุ์ที่ใช้งานที่จำเป็นสำหรับ
กระบวนการไนไตรด์; ในทางกลับกันมันทำหน้าที่เป็นกำแพงร้อนซึ่งจะโอนความร้อน
ที่ผลิตโดยพลาสมาภาระงานที่เกิดขึ้นในอุณหภูมิเครื่องแบบ
กระจายกว่าชิ้นส่วนแม้จะมีรูปทรงเรขาคณิตที่แตกต่างกันอย่างมาก เนื่องจากการเปลี่ยนของ
ประกายจากองค์ประกอบพื้นผิวความเสียหายจำนวนมากที่เป็นไปได้ที่เกิดจากการ hollowcathode
และ EDGE ผลกระทบ arcing และผลไนไตรด์ไม่สม่ำเสมอเนื่องจากไม่เท่ากัน
กระจายอุณหภูมิสามารถหลีกเลี่ยงได้ [4].
การตอบสนองไนไตรด์เครื่องแบบก็ประสบความสำเร็จในชุด ASPN อุตสาหกรรม อัพเฉพาะเมื่อ
เปิดใช้งานพลังเพิ่มเติมในแง่ของอำนาจอคติ cathodic การชิ้นส่วนที่จะ
ได้รับการรักษาถูกนำมาใช้ ปริมาณของพลังงานอคติที่ได้รับการปรับมูลค่า 10-15% ของ
พลังงานหน้าจอที่ใช้งานจริง ประสิทธิภาพการใช้ไนไตรด์สำหรับชิ้นส่วนภายใต้การตั้งลอย
ที่มีศักยภาพจะลดลงอย่างมากกับระยะทางที่เพิ่มขึ้นจากหน้าจอที่ใช้งานอยู่ ดังนั้น
การประยุกต์ใช้การเปิดใช้งานเตาเผาอคติในระดับอุตสาหกรรมให้ไนไตรด์ที่ประสบความสำเร็จ
ผลการเสนอชนิดไนโตรเจนใช้งานมากขึ้นที่พื้นผิวของส่วนประกอบ สำหรับเครื่องแบบ
ไนไตรด์การเปิดใช้งานอคติที่เพียงพอเป็นสิ่งที่จำเป็น หลังขึ้นอยู่กับขนาดของเตา
และความดันกระบวนการ แอพลิเคชันของอำนาจอคติกว่า 15% ไม่ได้แสดงใด ๆ
การปรับปรุงที่สำคัญของผลไนไตรด์บนพื้นฐานของข้อมูลของการทดสอบความแข็งขอบและ
โปรไฟล์ลึกไนไตรด์ [4]

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

จะได้รับการพิจารณาว่า การใช้พลาสมาโดยตรง ส่วนจะ nitrided ไม่ได้จริง ๆที่จำเป็น ก็เพียงพอที่จะสร้างพลาสมาอยู่ในสุญญากาศและสร้างการไหลเบาๆ เพื่อเอาไอออนหรือนิวตรอนตื่นเต้นมากกว่าปริมาณงาน ในใช้งานหน้าจอกระบวนการพลาสมา nitriding พลาสม่า เรืองแสง การย้ายจาก ส่วนประกอบเป็นทำบนหน้าจอโลหะ ( ใช้งานหน้าจอ ) รอบภาระงานทั้งหมด ที่โต๊ะทำงานและ ส่วนจะอยู่ในเรื่อง เพื่อศักยภาพหรือลอยต่ำแรงดันลบหน้าจอนี้ทำงานเป็นแคโทด และบนมืออื่น ๆทำหน้าที่เป็นผนังเตาแอโนด ภายใต้เงื่อนไขเหล่านี้ผลิตพลาสมาบนหน้าจอ ใช้งานหน้าจอด้วยพลาสมาเรืองแสงในมือข้างหนึ่งที่ผลิตผสมชนิดที่ต้องการใช้งานสำหรับกระบวนการไนไตรดิง ; บนมืออื่น ๆมันทำหน้าที่เป็นผนังร้อน ซึ่งการถ่ายโอนความร้อนผลิตโดย plasma จำหน่ายให้น้อยลงส่งผลให้อุณหภูมิสม่ำเสมอการกระจายทั่วส่วนแม้แต่กับเรขาคณิตที่แตกต่างกันอย่างมาก เนื่องจากการแทนที่ของเรืองแสงออกจากส่วนประกอบผิวความเสียหายที่เป็นไปได้หลายสาเหตุ hollowcathodeและขอบ arcing ผลกระทบและผลไม่สม่ำเสมอเนื่องจากไนไตรดิ้งไม่เท่ากันการกระจายอุณหภูมิสามารถหลีกเลี่ยงได้ [ 4 ]เครื่องแบบ nitriding ตอบสนองได้เป็น aspn อุตสาหกรรมตั้งเมื่อเพิ่มพลังการกัดกร่อนอคติในแง่ของอำนาจชิ้นส่วนเป็นการรักษาคือใช้ ปริมาณพลังงาน อคติคือปรับค่าประมาณ 10-15 % ของจริงที่ใช้งานหน้าจอไฟฟ้า และไนไตรดิ้งประสิทธิภาพส่วนประกอบชุดภายใต้ลอยอาจจะขอลดลงด้วยการเพิ่มระยะห่างจากจอที่ใช้งานอยู่ ดังนั้นการตั้งค่าเปิดใช้งานในระดับอุตสาหกรรมให้ประสบความสำเร็จ nitriding furnacesผลให้ไนโตรเจนชนิดงานมากขึ้นที่พื้นผิวของชิ้นส่วน สำหรับชุดไนไตรดิ้งเป็นกระตุ้นอคติที่เพียงพอเป็นสิ่งจำเป็น หลังขึ้นอยู่กับขนาดของเตาและในกระบวนการความดัน . การใช้อำนาจของอคติข้างต้น 15 % ไม่แสดงใด ๆการปรับปรุงที่สำคัญของไนไตรดิ้งผลลัพธ์จากข้อมูลการทดสอบความแข็งและขอบไนไตรดิ้งโปรไฟล์ความลึก [ 4 ]