Separation was achieved on a HP-Inn

Separation was achieved on a HP-Innowax fused-silica capillarycolumn
(30 m, 0.32 mmID, 0.5 lmfilm thickness; Agilent Technologies,
Palo Alto, CA, USA). The GC oven temperature programme
started at 40 C and arrived to 150 C at 2C min1, and then
increased at 6 C min1 to 250 C, which was maintained for
15 min.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

แยกสำเร็จบน capillarycolumn ผสมผสานซิ HP Innowax(30 ม. 0.32 mmID ความ หนา 0.5 lmfilm เทคโนโลยี Agilentพาโลอัลโต CA สหรัฐอเมริกา) โปรแกรมอุณหภูมิเตาอบ GCเริ่มต้นที่ 40 C และมาถึงถึง 150 C 2 C นาที 1 แล้วเพิ่มขึ้น 6 C นาที 1 ถึง 250 C ซึ่งได้รับการรักษา15 นาที

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

แยกก็ประสบความสำเร็จใน HP-Innowax ผสมซิลิกา capillarycolumn
(30 เมตร 0.32 mmID ความหนา 0.5 lmfilm; Agilent Technologies,
พาโลอัลโต, แคลิฟอร์เนีย, สหรัฐอเมริกา) โปรแกรมอุณหภูมิเตาอบ GC
เริ่มต้นที่ 40? C ถึง 150? C ที่ 2? C นาที? 1 แล้ว
เพิ่มขึ้น 6 องศาเซลเซียสนาที? 1-250 องศาเซลเซียสซึ่งได้รับการรักษาเป็นเวลา
15 นาที

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การทำใน HP innowax capillarycolumn ซิลิกา( 30 เมตร , 0.32 mmid 0.5 lmfilm หนา ; Agilent เทคโนโลยีพาโล อัลโต แคลิฟอร์เนีย สหรัฐอเมริกา ) GC เตาอบอุณหภูมิรายการเริ่มต้นที่ 40 องศาเซลเซียส และมาถึง 150 C ที่ 2 min1 แล้วเพิ่มขึ้นใน 6 C min1 250 C ซึ่งเป็นรักษาสำหรับ15 นาที