The deposition method overcomesdisa

The deposition method overcomes
disadvantages such as lowporosity and lowsurface area, generally
associated to chemical vapour deposition or sputtering
methods, and the fact that only the four membrane areas are
heated keeps power consumption low (80mWwhen working
at 500 ◦C).

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

วิธีสะสม overcomes
เสียเช่นตั้ง lowporosity และ lowsurface โดยทั่วไป
เกี่ยวข้องกับการสะสมไอสารเคมีหรือการพ่น
วิธี และข้อเท็จจริงที่เฉพาะพื้นที่เยื่อสี่
พลังงานช่วยผ่อนต่ำสุด (ทำงาน 80mWwhen
ที่ 500 ◦C)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

วิธีการสะสมเอาชนะ
ข้อเสียเช่น lowporosity และพื้นที่ lowsurface โดยทั่วไป
ที่เกี่ยวข้องกับการสะสมไอสารเคมีหรือสปัตเตอร์
วิธีการและความเป็นจริงว่ามีเพียงพื้นที่เยื่อสี่
อุ่นช่วยให้การใช้พลังงานต่ำ (80mWwhen ทำงาน
ที่ 500 ◦ C)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การเคลือบวิธีเอาชนะ
ข้อเสียเช่น lowporosity และพื้นที่ lowsurface โดยทั่วไปที่เกี่ยวข้องกับซีวีดี

หรือวิธีการสปัตเตอริง และความจริงที่ว่าเพียงสี่แผ่นพื้นที่มี
อุ่นช่วยให้ใช้พลังงานน้อย ( 80mwwhen ทำงาน
ที่ 500 ◦ C )