The XRD patterns of GO and RGO are

The XRD patterns of GO and RGO are shown in Fig. 2a. GO
has a large interlayer distance (0.8 nm, 2h = 10.3) due to the
formation of hydroxyl, epoxy, and carboxyl groups. After
reduction, the interlayer distance decreases to 0.375 nm
(2h = 23.4) due to the removal of some oxygen-containing
functional groups

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

รูปแบบ XRD RGO และไปแสดงใน Fig. 2a ไป
มี interlayer ไกล (0.8 nm, 2 h = 10.3) เนื่องการ
ก่อตัวของกลุ่มไฮดรอกซิล อีพ๊อกซี่ และ carboxyl หลังจาก
ลด ระยะห่าง interlayer ลดการ 0.375 nm
(2 h = 23.4) สมบางออกซิเจน-ประกอบด้วย
กลุ่ม functional

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

รูปแบบ XRD ของ GO และ RGO จะแสดงในรูปที่ 2a GO
มีระยะทางขนาดใหญ่ interlayer (0.8 นาโนเมตร 2h = 10.3) เนื่องจากการ
ก่อตัวของมักซ์พลังค์กลุ่มอีพ็อกซี่และ carboxyl หลังจากที่
ลดลงระยะ interlayer ลดลง 0.375 นาโนเมตร
(2H = 23.4) เนื่องจากการกำจัดของบางออกซิเจนที่มี
การทำงานเป็นกลุ่ม

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การศึกษาเฟสรูปแบบไป rgo แสดงในรูปที่ 2A ไป
มีระยะทางเป็นตัวเชื่อมขนาดใหญ่ ( 0.8 nm 2h = 10.3 ) เนื่องจากการก่อตัวของไฮดรอกซิล
, อีพ็อกซี่ , และกลุ่มคาร์บอกซิล . หลังจาก
ลด , สามารถระยะทางลดลงถึง 0.375 nm
( 2h = 23.4 ) เนื่องจากการกำจัดของบาง oxygen-containing
หมู่ฟังก์ชัน