(i) Removing the exposed photo resi

(i) Removing the exposed photo resist by soaking the glass substrate in very clean acetone, and removing the exposed seed layer by using lift-off process.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

(i) เอาต่อต้านภาพสัมผัสอย่างพื้นผิวแก้วอะซิโตนสะอาด และเอาชั้นเมล็ดสัมผัส โดยใช้กระบวนการ lift-off

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

(i) การถอดภาพสัมผัสต่อต้านโดยการแช่พื้นผิวแก้วในอะซีโตนสะอาดมากและลบชั้นเมล็ดเปิดเผยโดยใช้กระบวนการยกออก

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

( 1 ) การเปิดเผยภาพถ่ายต่อต้านโดยแช่แผ่นแก้วในสะอาดมาก ) และการตากเมล็ดชั้นโดยใช้ลิฟท์ปิดกระบวนการ