tHxtal NYL-1 TMis an epoxy adhesive

tHxtal NYL-1 TMis an epoxy adhesive designed especially for glass restoration and conservation, which however is used today on marble, wood, ivory and much more; it can also be colored or filled to match porcelain. This epoxy system is claimed by the manufacturers to have excellent photo stability. The present study aimed at the estimation of its photo stability under irradiation with light of  = 254 nm or  > 300 nm in the presence of oxygen (air) for a certain period of time towards samples cured at different temperatures. The changes of chemical structure caused by the irradiation of samples were studied by FT–IR spectroscopy. The general conclusion of this study is that the best temperature for curing of Hxtal NYL-1 TMis that of 25◦C and that irradiation even with light  > 300 nm must be avoided because may cause photo-oxidative reactions.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

tHxtal TMis NYL-1 กาวอีพ็อกซี่ที่ออกแบบมาโดยเฉพาะสำหรับแก้วบูรณะและอนุรักษ์ ซึ่งอย่างไรก็ตาม วันนี้มีใช้หิน ไม้ งาช้าง และอื่น ๆ อีกมากมาย จะยังสามารถสี หรือเติมให้ตรงกับเครื่องเคลือบดินเผา ระบบอีพ็อกซี่นี้ถูกอ้างว่า ผู้ผลิตจะมีเสถียรภาพดีเยี่ยม มุ่งศึกษาการประเมินความเสถียรภาพภายใต้วิธีการฉายแสงของ = 254 nm หรือ > 300 nm ในออกซิเจน (อากาศ) ระยะเวลาต่อตัวอย่างที่อบด้วยอุณหภูมิที่แตกต่างกัน การเปลี่ยนแปลงของโครงสร้างทางเคมีที่เกิดจากรังสีของตัวอย่างที่ศึกษา โดยมิก FT – IR ข้อสรุปทั่วไปของการศึกษานี้คือ ที่อุณหภูมิที่ดีที่สุดสำหรับการบ่มของ Hxtal NYL-1 TMis ที่ 25◦C และการฉายรังสีแม้ว่าจะ มีแสง > 300 nm ที่ต้องหลีกเลี่ยงเนื่องจาก อาจทำให้เกิดปฏิกิริยาออกซิเดชันเป็นภาพ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

tHxtal NYL-1 TMIS กาวอีพ็อกซี่ออกแบบมาโดยเฉพาะสำหรับการฟื้นฟูและการอนุรักษ์แก้วซึ่ง แต่ถูกนำมาใช้ในวันนี้หินอ่อน, ไม้, งาช้างและอื่น ๆ อีกมากมาย; ก็ยังสามารถที่เต็มไปด้วยสีหรือเพื่อให้ตรงกับพอร์ซเลน ระบบอีพ็อกซี่นี้โดยอ้างว่าเป็นผู้ผลิตที่จะมีเสถียรภาพภาพที่ยอดเยี่ยม การศึกษาครั้งนี้มุ่งเป้าไปที่การประมาณค่าของความมั่นคงภาพถ่ายภายใต้การฉายรังสีด้วยแสง? = 254 นาโนเมตรหรือ? > 300 นาโนเมตรในที่ที่มีออกซิเจน (อากาศ) ในช่วงเวลาหนึ่งของเวลาที่มีต่อการรักษาให้หายขาดตัวอย่างที่อุณหภูมิที่แตกต่างกัน การเปลี่ยนแปลงของโครงสร้างทางเคมีที่เกิดจากการฉายรังสีของกลุ่มตัวอย่างได้รับการศึกษาโดย FT-IR สเปกโทรสโก สรุปทั่วไปของการศึกษาครั้งนี้คือการที่อุณหภูมิที่ดีที่สุดสำหรับการรักษาของ Hxtal NYL-1 TMIS ที่25◦Cและการฉายรังสีว่าแม้จะมีแสงไฟไหม > 300 นาโนเมตรจะต้องหลีกเลี่ยงเพราะอาจทำให้เกิดปฏิกิริยาออกซิเดชั่ภาพ