Table 4 shows nanohardness, Young m

Table 4 shows nanohardness, Young modulus, thickness and chemical composition of the coatings deposited on AISI H13 tool steel.
Reactive magnetron sputtering in the A2, A3 and A4 conditions led to the formation of TiN as shown in Table 4, where the compositions of the films range from 45 to 49 at.% Ti.While, reactive magnetron sputtering in the B2 condition led to the formation of TiC as shown in Table 4, from where it is seen that the composition is approximately 57 at.% Ti and 43 at.% C.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ตาราง 4 แสดง nanohardness โมดูลัสของหนุ่มสาว ความหนา และองค์ประกอบทางเคมีของไม้แปรรูปฝากเหล็กกล้าเครื่องมือ AISI H13ปฏิกิริยา magnetron พ่นสภาพ A2, A3 และ A4 นำไปสู่การก่อตัวของดีบุก ดังแสดงในตาราง 4 ที่องค์ของภาพยนตร์ตั้งแต่ 45 ถึง 49 at.% Ti.While ปฏิกิริยา magnetron พ่นในเงื่อนไข B2 นำจะก่อรับผลิตกระป๋องดังแสดงในตาราง 4 จากที่เห็นว่าองค์ประกอบประมาณ 57 at.% ตี้และ 43 at.% C.

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ตารางที่ 4 แสดงให้เห็น nanohardness, มอดุลัสความหนาและองค์ประกอบทางเคมีของสารเคลือบวางลงบนเหล็กเครื่องมือ AISI H13.
ปฏิกิริยาสปัตเตอร์แมกใน A2, A3 และเงื่อนไข A4 นำไปสู่การก่อตัวของ TiN ดังแสดงในตารางที่ 4 ซึ่งองค์ประกอบของ ภาพยนตร์ช่วง 45-49 ที่. Ti.While%, สปัตเตอร์แมกปฏิกิริยาในสภาพ B2 นำไปสู่การก่อตัวของ TiC ดังแสดงในตารางที่ 4 จากที่จะเห็นว่าองค์ประกอบจะอยู่ที่ประมาณ 57 ที่. Ti% และ 43 ที่ . ซี%

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ตารางที่ 4 แสดง nanohardness ยังโมดูลัส ความหนา และองค์ประกอบทางเคมีของผิวเคลือบเงินเหล็กเครื่องมือ h13 AISI .
reactive ตรอนสปัตเตอริงใน A2 , A3 และเงื่อนไขที่นำไปสู่การก่อตัวของ A4 ดีบุก ดังแสดงในตารางที่ 4 ที่ส่วนประกอบของภาพยนตร์ตั้งแต่ 45 ถึง 49 % ใน ทิ ขณะทีฟแมกนีตรอนสปัตเตอริงใน B2 เงื่อนไขนำไปสู่การก่อตัวของติ๊ก ดังแสดงในตารางที่ 4 ซึ่งจะเห็นได้ว่าองค์ประกอบที่ประมาณ 57 % Ti และ 43 % C .

ที่