In DC magnetron sputtering system g

In DC magnetron sputtering system going through magnetic field both parallel and perpendicular to the surface of the target for increase the distance of the electrons before moving to anode The electron is likely to ionization of atoms of more gas.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ใน DC magnetron พ่นระบบจะผ่านสนามแม่เหล็กขนาน และตั้งฉากกับพื้นผิวของเป้าหมายสำหรับเพิ่มระยะทางของอิเล็กตรอนก่อนย้ายไปยังขั้วบวกอิเล็กตรอนมีแนวโน้มการ ionization ของอะตอมของก๊าซมากขึ้น

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ในระบบสปัตเตอร์ซีแมกนีตรอนจะผ่านสนามแม่เหล็กทั้งสองขนานและตั้งฉากกับพื้นผิวของเป้าหมายเพื่อเพิ่มระยะทางของอิเล็กตรอนก่อนที่จะย้ายไปยังขั้วบวกอิเล็กตรอนมีแนวโน้มที่จะแตกตัวเป็นไอออนของอะตอมของก๊าซมากขึ้น

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ดีซีแมกนีตรอนสปัตเตอริงในระบบผ่านสนามแม่เหล็กทั้งแนวขนานและตั้งฉากกับพื้นผิวของชิ้นงานเพื่อเพิ่มระยะห่างของอิเล็กตรอนอิเล็กตรอนขั้วบวกก่อนย้ายมาน่าจะเป็นไอของอะตอมของก๊าซมากขึ้น