The bottom Pt layer diffused into t

The bottom Pt layer diffused into the Ti and Ge layers, resulting in a lower contact resistance for the contact. In addition, it is
observed that the Cu atoms did not completely penetrate the top Pt layer

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ชั้นล่าง Pt แต่ในตี้และ Ge ชั้น ผลต้านล่างติดต่อสำหรับผู้ติดต่อ นอกจากนี้ มันเป็นสังเกตว่า อะตอม Cu ได้ไม่สมบูรณ์เจาะ Pt ชั้นบนสุด

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ชั้นล่าง Pt กระจายเข้าไปในชั้น Ti และจีอีส่งผลให้ความต้านทานติดต่อที่ต่ำกว่าสำหรับการติดต่อ นอกจากนี้ยังมีการตั้งข้อสังเกตว่าอะตอม Cu ไม่สมบูรณ์เจาะชั้น Pt ด้านบน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ชั้น ล่างเป็น PT ที่มี Ti และ GE ชั้น ส่งผลให้ความต้านทานต่ำสำหรับติดต่อติดต่อ นอกจากนี้ ยังพบว่า CU
อะตอมไม่ได้สมบูรณ์เจาะชั้นจุดด้านบน