The GD-OES elemental profile of the

The GD-OES elemental profile of the surface treated by dipping in KMnO4 showed lower oxide layer thickness and the chemical profile exhibits uniform distribution of manganese throughout the oxide layer. The manganese concentration showed a decrease with depth towards the metal oxide interface. However in the case of steam treatment using KMnO4 solution, thickness of the produced oxide layer was high, while the manganese content in the coating
was significantly lower in the top (∼200 nm) of the surface layer as shown in Fig. 1 (e). The steam treatment of Peraluman 706TM surface with steam generated from aqueous solution of HNO3 did not indicate the incorporation of any other chemical species, neither at the surface nor in the bulk of the oxide layer (Fig. 1 (f)). The GD-OES profiling of the AA1090 and AA6060 alloys surfaces (not shown) also exhibited similar results as for Peraluman 706TM, therefore only the
summary of the results for AA1090 and AA6060 is presented.
Average thickness of the oxide layer calculated from the GDOES depth profiles on AA1090, AA6060 and Peraluman 706TM are presented in Fig. 1 (d). In general, thickness of the oxide layer was a function of the substrate type and chemistries. The highest thickness of the oxide layer resulted from steam treatment using KMnO4 on AA1090, AA6060 and Peraluman 706TM. Steam generated from the aqueous solution with low concentration of HNO3 resulted in the formation of relatively thick oxide on Peraluman 706TM and AA6060 in comparison to AA1090. The increase in the concentration of HNO3 reduced the average thickness of the oxide layer on Peraluman 706TM and AA6060. AA1090 alloy exhibited reduction
in thickness of oxide layer by the addition of HNO3 regardless of the variation in concentration of HNO3 in aqueous solution

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

รักษาโพรไฟล์ธาตุ GD OES ของพื้นผิว โดยจุ่มใน KMnO4 แสดงให้เห็นว่าความหนาของชั้นออกไซด์ต่ำกว่า และค่าทางเคมีแสดงกระจายสม่ำเสมอของแมงกานีสทั่วชั้นออกไซด์ ความเข้มข้นของแมงกานีสพบลดลงลึกไปยังอินเทอร์เฟซของโลหะออกไซด์ อย่างไรก็ตาม ในกรณีของการอบใช้โซลูชัน KMnO4 ความหนาของชั้นออกไซด์ที่ผลิตได้สูง ในขณะที่เนื้อหาแมงกานีสในการเคลือบมีนัยสำคัญต่ำ (∼200 nm) ด้านบนของชั้นผิวดังแสดงในรูปที่ 1 (e) การอบ Peraluman 706TM ผิวด้วยไอน้ำที่เกิดจากการละลายของ HNO3 ไม่ได้ระบุในการประสานทุกสารเคมีชนิดอื่น ๆ ที่พื้นผิว ไม่เป็นกลุ่มของชั้นออกไซด์ (รูปที่ 1 (f)) สร้างโพรไฟล์ GD OES ของ AA1090 และ AA6060 โลหะผสมผิว (ไม่แสดง) นอกจากนี้ยัง มีการจัดแสดงผลที่คล้ายกันเช่น Peraluman 706TM ดังนั้นเท่านำเสนอสรุปผลการ AA1090 และ AA6060ความหนาเฉลี่ยของชั้นออกไซด์ที่คำนวณจากส่วนกำหนดค่าความลึก GDOES AA1090, 706TM AA6060 และ Peraluman จะแสดงในรูปที่ 1 (d) ทั่วไป ความหนาของชั้นออกไซด์คือ ฟังก์ชันของชนิดสารตั้งต้นและเคมี ความหนาสูงสุดของชั้นออกไซด์ที่เกิดจากการอบใช้ KMnO4 บน 706TM AA1090, AA6060 และ Peraluman ไอน้ำที่เกิดจากการละลายกับความเข้มข้นต่ำของ HNO3 ทำให้การก่อตัวของออกไซด์ค่อนข้างหนา Peraluman 706TM และ AA6060 เมื่อเทียบกับ AA1090 การเพิ่มขึ้นของความเข้มข้นของ HNO3 ลดลงความหนาเฉลี่ยของชั้นออกไซด์ Peraluman 706TM และ AA6060 โลหะผสม AA1090 แสดงการลดความหนาของชั้นออกไซด์โดยการเติม HNO3 คำนึงถึงการเปลี่ยนแปลงในความเข้มข้นของ HNO3 ในสารละลาย

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

GD-OES รายละเอียดธาตุของพื้นผิวได้รับการรักษาโดยการจุ่มใน KMnO4 แสดงให้เห็นความหนาของชั้นออกไซด์ที่ลดลงและการจัดแสดงรายละเอียดสารเคมีกระจายสม่ำเสมอตลอดแมงกานีสชั้นออกไซด์ ความเข้มข้นแมงกานีสพบว่าลดลงมีความลึกต่ออินเตอร์เฟซโลหะออกไซด์ อย่างไรก็ตามในกรณีของการรักษาอบไอน้ำโดยใช้วิธีการแก้ปัญหา KMnO4 ความหนาของชั้นออกไซด์ที่ผลิตอยู่ในระดับสูงในขณะที่เนื้อหาแมงกานีสในการเคลือบ
ลดลงอย่างมีนัยสำคัญในด้านบน (~200 นาโนเมตร) ของชั้นผิวดังแสดงในรูป 1 (E) การรักษาที่อบไอน้ำของพื้นผิว Peraluman 706TM ด้วยไอน้ำที่เกิดจากสารละลายของ HNO3 ไม่ได้ระบุรวมตัวกันของสารเคมีชนิดอื่น ๆ ทั้งที่พื้นผิวหรือในกลุ่มของชั้นออกไซด์ (รูปที่ 1. (ฉ)) โปรไฟล์ GD-OES ของ AA1090 และ AA6060 ผสมพื้นผิว (ไม่แสดง) นอกจากนี้ยังจัดแสดงผลที่คล้ายกันกับการ Peraluman 706TM จึงเพียง
สรุปผลสำหรับ AA1090 และ AA6060 จะนำเสนอ.
หนาเฉลี่ยของชั้นออกไซด์คำนวณจากความลึก GDOES โปรไฟล์บน AA1090, AA6060 และ Peraluman 706TM จะถูกนำเสนอในรูป 1 (ง) โดยทั่วไปความหนาของชั้นออกไซด์เป็นฟังก์ชั่นชนิดพื้นผิวและเคมี ความหนาสูงสุดของชั้นออกไซด์ที่เกิดจากการรักษาโดยใช้ไอน้ำใน KMnO4 AA1090, AA6060 และ Peraluman 706TM อบไอน้ำที่เกิดจากสารละลายที่มีความเข้มข้นต่ำของ HNO3 ผลในการก่อตัวของออกไซด์ค่อนข้างหนา Peraluman 706TM และ AA6060 ในการเปรียบเทียบกับ AA1090 การเพิ่มขึ้นของความเข้มข้นของ HNO3 ลดความหนาเฉลี่ยของชั้นออกไซด์ใน Peraluman 706TM และ AA6060 AA1090 อัลลอยแสดงการลด
ความหนาของชั้นออกไซด์โดยนอกเหนือจาก HNO3 โดยไม่คำนึงถึงการเปลี่ยนแปลงในความเข้มข้นของ HNO3 ในสารละลาย