I. IntroductionUV lamps are used fo

I. Introduction
UV lamps are used for various purposes in the industries
of Electronics, Mechatoronics, Display, Chemical,
Bio, and Communications. Because of their high luminance
or illuminance, it is effective to use the UV lamps
especially in the case that a large fluence of UV photons
affect as energetic particles and promote the reactions,
so-called photochemical reaction, or processes at the
surface of matters. Although the working mechanisms
or the theories of the discharge lamps are universal and
unchangeable, the properties of the lamp itself have
remarkably changed to be situated to the specific purposes
of the specific industries. This article shows four
unique topics of lamps used for recent demand from the
industries.
It is well known that G-line and/or I-line radiated from
the super-high pressure mercury (Hg) lamp are useful
and used for photo-lithography process and inspection
process in the semiconductor manufacturing process,
and the stable qualities of these lines’width and intensities
have been changed to meet the higher through-up
requirement of the manufacturing process. In addition,
these days, it was recognized that the illumination with
pulsed light was an advantageous way in the heating
and annealing processes of the silicon wafer. As a
result, the flash lamp, as well as a KrF laser, is adapted
to this process for electrical activation and rearrangement
of the crystal structure in the ionimplanted layer
of the surface. Another application of the UV lamps is
for bacterium by irradiating 254 nm-line from a lowpressure
mercury lamp, but more intense and conventional
VUV light was realized by a Xe excimer lamp in
this decade, which has been applied for more effective
treatment of water or dry-cleaning process of liquid
crystal products. On the other hand, the super-high
pressure Hg lamp is utilized as a light source of a projector
system: the color rendering properties were
improved by increasing Hg pressure up to more than
150 atm during operation to increase the radiation in
wavelength region >500nm.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

I. IntroductionUV lamps are used for various purposes in the industriesof Electronics, Mechatoronics, Display, Chemical,Bio, and Communications. Because of their high luminanceor illuminance, it is effective to use the UV lampsespecially in the case that a large fluence of UV photonsaffect as energetic particles and promote the reactions,so-called photochemical reaction, or processes at thesurface of matters. Although the working mechanismsor the theories of the discharge lamps are universal andunchangeable, the properties of the lamp itself haveremarkably changed to be situated to the specific purposesof the specific industries. This article shows fourunique topics of lamps used for recent demand from theindustries.It is well known that G-line and/or I-line radiated fromthe super-high pressure mercury (Hg) lamp are usefuland used for photo-lithography process and inspectionprocess in the semiconductor manufacturing process,and the stable qualities of these lines’width and intensitieshave been changed to meet the higher through-uprequirement of the manufacturing process. In addition,these days, it was recognized that the illumination withpulsed light was an advantageous way in the heatingand annealing processes of the silicon wafer. As aresult, the flash lamp, as well as a KrF laser, is adaptedto this process for electrical activation and rearrangementof the crystal structure in the ionimplanted layerของพื้นผิว โปรแกรมประยุกต์อื่นของโคมไฟ UVสำหรับแบคทีเรียโดย 254 nm-บรรทัดจาก lowpressure เป็น irradiatingโคมไฟดาวพุธ ธรรมดา และรุนแรงมากขึ้นโคมไฟไป Xe ในถูกรับรู้แสง VUVทศวรรษนี้ ซึ่งได้ถูกใช้สำหรับการมีประสิทธิภาพมากขึ้นรักษากระบวนการของเหลวน้ำหรือซักแห้งผลิตภัณฑ์คริสตัล ในทางกลับกัน ซุปเปอร์สูงแรงดันไฟ Hg ใช้ประโยชน์เป็นแหล่งกำเนิดแสงของเครื่องฉายภาพระบบ: คุณสมบัติการแสดงผลสีได้ปรับปรุง โดยการเพิ่มความดัน Hg ถึงมากกว่า150 ตู้ระหว่างการดำเนินการเพิ่มรังสีในความยาวคลื่นภูมิภาค > 500nm

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

I.
บทนำโคมไฟยูวีที่ถูกนำมาใช้เพื่อวัตถุประสงค์ต่างๆในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิคส์,
Mechatoronics, การแสดง,
เคมีชีวภาพและการสื่อสาร เพราะความสว่างสูงของพวกเขาหรือความสว่างจะมีประสิทธิภาพในการใช้หลอดไฟยูวีโดยเฉพาะอย่างยิ่งในกรณีที่fluence ใหญ่ของโฟตอนรังสียูวีที่มีผลกระทบต่ออนุภาคเป็นพลังและส่งเสริมให้เกิดปฏิกิริยาที่เรียกว่าปฏิกิริยาเคมีหรือกระบวนการที่พื้นผิวของเรื่อง แม้ว่ากลไกการทำงานหรือทฤษฎีของการปล่อยโคมไฟที่เป็นสากลและไม่เปลี่ยนแปลงคุณสมบัติของหลอดไฟที่ตัวเองมีการเปลี่ยนแปลงอย่างน่าทึ่งที่จะอยู่กับวัตถุประสงค์เฉพาะของอุตสาหกรรมที่เฉพาะเจาะจง บทความนี้แสดงสี่หัวข้อที่ไม่ซ้ำกันของโคมไฟที่ใช้สำหรับความต้องการล่าสุดจากอุตสาหกรรม. เป็นที่รู้จักกันดีว่า G-line และ / หรือ I-สายแผ่จากปรอทความดันซุปเปอร์สูง(Hg) โคมไฟที่มีประโยชน์และใช้สำหรับภาพพิมพ์หินกระบวนการและการตรวจสอบขั้นตอนในกระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์และคุณภาพที่มั่นคงของlines'width เหล่านี้และความเข้มมีการเปลี่ยนแปลงเพื่อตอบสนองความสูงกว่าผ่านขึ้นความต้องการของกระบวนการผลิต นอกจากนี้วันนี้ก็เป็นที่ยอมรับว่าการส่องสว่างด้วยแสงพัลซิ่งเป็นวิธีที่มีประโยชน์ในการทำความร้อนและกระบวนการหลอมของเวเฟอร์ซิลิกอน ในฐานะที่เป็นผลให้ไฟแฟลชเช่นเดียวกับเลเซอร์ KrF คือการปรับตัวในการดำเนินการนี้สำหรับการเปิดใช้ไฟฟ้าและการปรับปรุงใหม่ของโครงสร้างผลึกในชั้นionimplanted ของพื้นผิว แอพลิเคชันของโคมไฟยูวีก็คือสำหรับแบคทีเรียโดยการฉายรังสี 254 นาโนเมตรเส้นจาก lowpressure โคมไฟปรอท แต่รุนแรงมากขึ้นและธรรมดาแสงVUV ได้ตระหนักโดยโคมไฟ excimer Xe ในทศวรรษนี้ซึ่งได้รับการใช้สำหรับการมีประสิทธิภาพมากขึ้นการรักษาน้ำหรือกระบวนการซักแห้งของของเหลวผลิตภัณฑ์คริสตัล บนมืออื่น ๆ , ซุปเปอร์สูงความดันหลอดไฟปรอทถูกนำมาใช้เป็นแหล่งกำเนิดแสงของโปรเจ็กเตอร์ของระบบ: คุณสมบัติการแสดงผลสีได้รับการปรับปรุงให้ดีขึ้นโดยการเพิ่มความดันปรอทขึ้นไปกว่า150 ตู้เอทีเอ็มระหว่างการดำเนินการเพื่อเพิ่มการฉายรังสีในช่วงความยาวคลื่น> 500nm .

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ผมแนะนำ
โคมไฟยูวีที่ใช้สำหรับวัตถุประสงค์ต่าง ๆ ในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์ mechatoronics
,
, แสดง , เคมี , ชีวภาพ , และการสื่อสาร เพราะความสว่างสูง
หรือความสว่าง มันมีประสิทธิภาพในการใช้โคมไฟยูวี
โดยเฉพาะในกรณี ที่ fluence ขนาดใหญ่ของ UV ต่อโฟตอนเป็นอนุภาคพลัง
และส่งเสริมปฏิกิริยา ปฏิกิริยาเคมีที่เรียกว่า
,หรือกระบวนการที่
พื้นผิวต่างๆ แม้ว่ากลไกการทำงาน
หรือทฤษฎีของปล่อยโคมไฟเป็นสากลและ
เปลี่ยนไม่ได้ คุณสมบัติของหลอดไฟที่ตัวเองมี
อย่างเปลี่ยนให้ตั้งอยู่เฉพาะวัตถุประสงค์
ของอุตสาหกรรมที่เฉพาะเจาะจง บทความนี้แสดงสี่
หัวข้อเฉพาะของโคมไฟที่ใช้สำหรับความต้องการล่าสุดจาก

อุตสาหกรรมมันเป็นที่รู้จักกันดีว่า g-line และ / หรือ I - line
สูงสุดที่เกิดจากความดันปรอทโคมไฟมีประโยชน์
และใช้สำหรับกระบวนการโฟโตลิโทกราฟฟีและกระบวนการตรวจสอบในกระบวนการผลิตสารกึ่งตัวนำ

, และคุณภาพที่มั่นคงของ lines'width เหล่านี้และเข้ม
มีการเปลี่ยนแปลงเพื่อตอบสนองสูงกว่าผ่านขึ้น
ความต้องการของ กระบวนการผลิต นอกจากนี้
วันเหล่านี้มันคือการยอมรับว่าการส่องสว่างด้วยแสงพัลซิ่งเป็นวิธีการได้เปรียบ

ในความร้อนและการอบอ่อนที่กระบวนการซิลิคอนเวเฟอร์ โดย
ผล , หลอดไฟแฟลช รวมทั้ง krf เลเซอร์ถูกดัดแปลง
นี้กระบวนการกระตุ้นไฟฟ้าและจัดลำดับ
ของโครงสร้างผลึกใน ionimplanted ชั้น
ของพื้นผิว โปรแกรมประยุกต์อื่นของโคมไฟยูวีเป็น
สำหรับแบคทีเรียโดยการฉายรังสี บรรทัด nm 254 จาก lowpressure
ปรอทโคมไฟ แต่เข้มมาก และปกติ
VUV แสงเป็นตระหนักโดย XE Excimer โคมไฟใน
ทศวรรษนี้ ซึ่งได้ถูกใช้สำหรับการรักษาที่มีประสิทธิภาพมากขึ้นของน้ำหรือแห้ง
กระบวนการทำความสะอาดของผลิตภัณฑ์ผลึกเหลว

บนมืออื่น ๆ , โคมไฟแรงดันสูงสุด
HG ใช้เป็นแหล่งไฟของระบบโปรเจคเตอร์
:สีแสดงคุณสมบัติมีการปรับปรุงโดยการเพิ่มความดันปรอท

ถึงกว่า 150 ตู้ ในระหว่างการดำเนินงานเพื่อเพิ่มรังสีความยาวคลื่นในภูมิภาค >
500nm .