The average roughness of the 20 nm-

The average roughness of the 20 nm-thick seed layer is 0.46 nm,
which increases very slightly to 0.55 nm with increase of film
thickness to 40 nm. But with increase of seed layer thickness up to
160 nm and 320 nm, the average roughness significantly increases
to 2.78 nm and 3.80 nm, respectively.
These results are in full agreement with AFM images shown in
Fig. 1(AeD).
It is well known that the seed layer plays an important role in the
alignment of nanorods [24] and some results reveal that local
temperature on the substrate, thickness of seed layer, oxygen partial
pressure sputtering and preferred orientation of seed layer are
effective parameters in producing well-aligned nanorods [25e27].
Ji et al. [24], by presenting a model, showed that increase of seed
layer thickness results in smoother surface of the film and hence

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ขรุขระเฉลี่ยของชั้นเมล็ด 20 นาโนเมตรหนาเป็น 0.46
นาโนเมตรซึ่งเพิ่มขึ้นเล็กน้อย0.55
นาโนเมตรที่จะมีการเพิ่มขึ้นของหนังเรื่องนี้มีความหนาถึง40 นาโนเมตร แต่มีการเพิ่มขึ้นของความหนาของชั้นเมล็ดถึง
160 นาโนเมตรและ 320
นาโนเมตรที่ขรุขระเฉลี่ยเพิ่มไป2.78 นาโนเมตรและ 3.80 นาโนเมตรตามลำดับ.
ผลลัพธ์เหล่านี้อยู่ในข้อตกลงที่เต็มไปด้วยภาพ AFM
แสดงในรูปที่ 1 (AED).
เป็นที่รู้จักกันดีว่าชั้นเมล็ดพันธุ์ที่มีบทบาทสำคัญในการจัดตำแหน่งของแท่งนาโน [24] และผลบางอย่างแสดงให้เห็นว่าท้องถิ่นอุณหภูมิบนพื้นผิวที่มีความหนาของชั้นเมล็ดออกซิเจนบางส่วนสปัตเตอร์ความดันและการวางแนวที่ต้องการของเมล็ดชั้นเป็นพารามิเตอร์ที่มีประสิทธิภาพในการผลิตแท่งนาโนกันชิด [25e27]. จีเอตอัล [24] โดยนำเสนอรูปแบบที่แสดงให้เห็นการเพิ่มขึ้นของเมล็ดพันธุ์ที่ผลความหนาของชั้นผิวเรียบเนียนของภาพยนตร์และด้วยเหตุนี้

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ความขรุขระเฉลี่ย 20 nm หนาเมล็ดพันธุ์ชั้น 3 nm
ซึ่งเพิ่มขึ้นมากเล็กน้อยถึง 0.55 nm ที่มีการเพิ่มขึ้นของความหนาของฟิล์ม
40 นาโนเมตร แต่เพิ่มความหนาขึ้นของชั้นเมล็ด

160 nm และ 320 nm , ความหยาบผิวเฉลี่ยเพิ่มขึ้นอย่างมีนัยสำคัญถึง 2.78 nm และ

7 นาโนเมตร ผลเหล่านี้ในข้อตกลงทั้งหมดที่มีภาพ AFM แสดงในรูปที่ 1

( แอ๊ด )มันเป็นที่รู้จักกันดีว่าเมล็ดพันธุ์ชั้นมีบทบาทสำคัญในการ nanorods
[ 24 ] และพบว่าท้องถิ่น
อุณหภูมิบนพื้นผิว , ความหนาของชั้นเมล็ด ออกซิเจนแรงดันที่ต้องการ และการสปัตเตอร์

ชั้นเมล็ดที่มีพารามิเตอร์ในการผลิตชิดดี nanorods [ 25e27 ] .
จี et al . [ 24 ] โดยเสนอรูปแบบ พบว่า เมล็ด
เพิ่มความหนาชั้น ส่งผลให้เรียบพื้นผิวของฟิล์ม และดังนั้น