high levels of ion bombardment duri

high levels of ion bombardment during the initial stages of deposition may be beneficial to coating adhesion.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

การระดมยิงไอออนในระหว่างขั้นตอนแรกของการสะสมในระดับสูงอาจเป็นประโยชน์ต่อการเคลือบยึดเกาะ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ระดับสูงของการโจมตีไอออนในช่วงเริ่มต้นของการสะสมอาจเป็นประโยชน์ต่อการยึดเกาะเคลือบ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ระดับสูงของไอออนโจมตีในระหว่างขั้นเริ่มต้นของการสะสม อาจเป็นประโยชน์ การเคลือบ การยึดเกาะ