As a result of diffusion during the manufacture of p - n junction on the surface of silicon wafer was phosphorus-silicate glass, which is removed from the wafer by dipping them in HF solution.
เป็นผลมาจากการแพร่กระจายระหว่างการผลิตของ p - n ทางแยกบนพื้นผิวของแผ่นเวเฟอร์ซิลิคอนฟอสฟอรัสซิลิเกตแก้วซึ่งถูกลบออกจากแผ่นเวเฟอร์ด้วยการจุ่มพวกเขาในการแก้ปัญหาคือ HF
เป็นผลจากน้ำท่วมทุ่งในระหว่างการผลิตของ P ทางแยก N - บนพื้นผิวของแผ่นซิลิกอนแก้วเป็นฟอสฟอรัส - silicate ซึ่งจะถูกลบออกจากแผ่นที่โดยการจุ่มลงในโซลูชัน HF