by drop-casting30 μl of each suspen

by drop-casting
30 μl of each suspension onto a clean SiO2
substrate.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

โดยหล่อหล่นΜl 30 ของแต่ละช่วงล่างบน SiO2 สะอาดพื้นผิว

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

โดยหล่นหล่อ
30 ไมโครลิตรของแต่ละระงับลงบน SiO2 ทำความสะอาด
พื้นผิว

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

โดยวางหล่อ30 μ L แต่ละระงับไปยังสะอาดแร่ซิลิคอนไดออกไซด์พื้นผิว