The morphology and chemical structu

The morphology and chemical structure of Parylene F and Parylene N films annealed in air, N2, and vacuum were examined. The decomposition temperatures of Parylene N in air, N2, and vacuum were determined to be 175,350, and 425°C, respectively. The decomposition temperatures of Parylene F in air and N2 were determined to be 400 and 500°C, respectively. For both materials, the decomposition process with and without the presence of O is different. In the case of Parylene N, O diffuses into the materials and reacts with the C in the polymer. In the case of Parylene F, no reaction products with O are observed on the surface. Annealing at the decomposition temperature resulted in the decomposition of -CF2- functional groups to -CF- functional groups in the Parylene F. Thicker films,< μ, of either material cracked during annealing while films

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

โครงสร้างสัณฐานวิทยาและเคมีของฟิล์ม Parylene F และ Parylene N annealed ในอากาศ N2 และดูดได้ตรวจสอบ อุณหภูมิแยกส่วนประกอบของ Parylene N ในอากาศ N2 และดูดถูกกำหนดเป็น 175,350, 425° C ตามลำดับ อุณหภูมิแยกส่วนประกอบของ Parylene F ในอากาศและ N2 ได้กำหนดเป็น 400 และ 500 ° C ตามลำดับ กระบวนการแยกส่วนประกอบที่มี และไม่ มีของ O จะไม่แตกต่างทั้งวัสดุ ในกรณีของ Parylene N, O diffuses เป็นวัสดุ และทำปฏิกิริยากับ C ในการพอลิเมอร์ ในกรณีที่ F Parylene ผลิตภัณฑ์ไม่มีปฏิกิริยากับ O พบบนพื้นผิว การอบเหนียวที่อุณหภูมิแยกส่วนประกอบทำให้เกิดการเน่าของกลุ่ม functional - CF2 - functional กลุ่ม - CF - Parylene F. Thicker ฟิล์ม < μ วัสดุอย่างใดอย่างหนึ่งแตกในระหว่างการอบเหนียวขณะฟิล์ม < 0.5 μ ยังคงราบรื่น และโปร่งใส ยังสุภัค pinholes ในฟิล์ม Parylene F ที่ฝากเงินโดยใช้วิธี Gorham หลังการอบเหนียว

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

สัณฐานวิทยาและเคมีโครงสร้างของ Parylene F และ Parylene ไม่มีภาพยนตร์อบในอากาศ, N2 และสูญญากาศมีการตรวจสอบ อุณหภูมิการสลายตัวของ Parylene ไม่มีในอากาศ, N2 และสูญญากาศได้รับการพิจารณาให้เป็น 175,350 และ 425 องศาเซลเซียสตามลำดับ อุณหภูมิการสลายตัวของ F Parylene ในอากาศและ N2 ได้รับการพิจารณาให้เป็น 400 และ 500 องศาเซลเซียสตามลำดับ สำหรับวัสดุทั้งสองขั้นตอนการสลายตัวที่มีและไม่มีการปรากฏตัวของโอที่แตกต่างกัน ในกรณีที่ยังไม่มี Parylene โอกระจายลงในวัสดุและทำปฏิกิริยากับซีในลิเมอร์ที่ ในกรณีที่ Parylene F ไม่มีผลิตภัณฑ์ที่ทำปฏิกิริยากับ O จะสังเกตเห็นบนพื้นผิว หลอมที่อุณหภูมิการสลายตัวที่ส่งผลให้เกิดการสลายตัวของ -CF2- กลุ่มทำงานเพื่อ -CF- กลุ่มทำงานใน Parylene เอฟฟิล์มหนา <μของวัสดุทั้งสองแตกในระหว่างการอบในขณะที่ภาพยนตร์ <0.5 μยังคงราบรื่นและโปร่งใส รูยังพบได้ในภาพยนตร์ Parylene F ฝากโดยใช้วิธีกอร์แฮมหลังจากอบอ่อน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

และลักษณะโครงสร้างทางเคมีของ Parylene F และ N หนัง Parylene อบในอากาศ , N2 และสุญญากาศที่ตรวจ อุณหภูมิของการสลายตัว Parylene ในอากาศ , N2 และสุญญากาศที่มุ่งมั่นที่จะเป็น 1 , 425 องศาองศาเซลเซียส ตามลำดับ อุณหภูมิของการสลายตัว Parylene F ในอากาศและ N2 มีความตั้งใจจะ 400 และ 500 ° C ตามลำดับ ทั้งวัสดุส่วนกระบวนการที่มีและไม่มีการปรากฏตัวของโอ มันต่างกัน ในกรณีของ Parylene N , O แพร่กระจายเข้าไปในวัสดุ และตอบสนองกับ C ในพอลิเมอร์ ในกรณีของ Parylene F ไม่มีปฏิกิริยาผลิตภัณฑ์ O จะสังเกตได้บนพื้นผิว อบอ่อนที่อุณหภูมิการสลายตัวส่งผลให้เกิดการย่อยสลาย - cf2 - หมู่ฟังก์ชัน - CF - หมู่ฟังก์ชันใน Parylene Fความหนาฟิล์ม , < μ , ให้วัสดุแตกในระหว่างการอบในขณะที่ภาพยนตร์ < 0.5 μยังคงเรียบและโปร่งใส รูพบใน Parylene F ฟิล์มฝากโดยใช้วิธีการด้านหลังการอบ .