Using silane (SiH4) instead of TCS

Using silane (SiH4) instead of TCS (SiHCl3) during decomposition simplifies the process and in this process SiH4 is decomposed according to the following reaction at 800-1000°C [2]:

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ใช้ silane (SiH4) แทน TCS (SiHCl3) แยกส่วนประกอบกระบวนการที่ช่วยให้ง่าย และในกระบวนการนี้ SiH4 จะย่อยสลายไปตามปฏิกิริยาที่ 800-1000 ° C [2] ต่อไปนี้:

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

โดยใช้ไซเลน (SiH4) แทน TCS (SiHCl3) ในระหว่างการสลายตัวช่วยลดความยุ่งยากและในขั้นตอนนี้จะถูกย่อยสลาย SiH4 ตามปฏิกิริยาต่อไปนี้ที่ 800-1000 ° C [2]:

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

โดยใช้ไซเลน ( sih4 ) แทนของ TCS ( sihcl3 ) ในระหว่างการย่อยสลาย ช่วยกระบวนการ และในกระบวนการนี้ sih4 คือย่อยสลายตามปฏิกิริยาที่ 800-1 , 000 ° C [ 2 ] :