The compositions and growth kinetic

The compositions and growth kinetics of oxide films formed in air at 150°C to 300°C on the Cu-base
leadframe alloy were studied using X-ray diffraction (XRD), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS),
and coulometric reduction technique. XPS and XRD studies confirmed that the oxide film consisted of
Cu/Cu2O (NiO)/CuO (NiO)/air. Cu2O was the major oxide and the thickness ratio of CuO/Cu2O was
approximately 0.28 at 150°C and 0.34 at 200°C. The kinetic studies on the oxidation showed that oxide
growth followed the parabolic rate law in the temperature range of 150°C to 300°C and the activation
energy for the overall copper oxidation was 71 kJ/mol. The activation energies for the cuprous oxide

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

องค์ประกอบและจลนพลศาสตร์ของการเจริญเติบโตของฟิล์มออกไซด์ที่เกิดขึ้นในอากาศที่ 150° C ถึง 300° C บนฐาน Cuโลหะผสม leadframe ที่มีศึกษาใช้การเลี้ยวเบนรังสีเอ็กซ์ (XRD), X-ray photoelectron สเปกโทรสโก (XPS),และเทคนิคลดคู XPS และ XRD การศึกษายืนยันว่า ฟิล์มออกไซด์ประกอบด้วยCu/Cu2O (นิการากัว NiO) / CuO (นิการากัว NiO) แอร์ Cu2O ออกไซด์หลัก และอัตราส่วนความหนาของ CuO/Cu2Oประมาณ 0.28 ที่ 150° C และ 0.34 ที่ 200 องศาเซลเซียส การศึกษาการเคลื่อนไหวเกิดออกซิเดชันพบออกไซด์ที่เจริญเติบโตตามกฎหมายราคาจานในช่วงอุณหภูมิ 150° c ถึง 300° C และการเปิดใช้งานพลังงานการเกิดออกซิเดชันทองแดงรวมเป็น 71 kJ/mol พลังงานเปิดใช้งานสำหรับออกไซด์ cuprous

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

องค์ประกอบและการเจริญเติบโตจลนศาสตร์ของภาพยนตร์ออกไซด์ที่เกิดขึ้นในอากาศที่ 150 ° C ถึง 300 ° C ใน Cu ฐาน
โลหะผสม Leadframe ศึกษาโดยใช้รังสีเอกซ์เลนส์ (XRD), X-ray โฟโตอิเล็กตรอนสเปกโทรสโก (XPS)
และเทคนิคการลด coulometric . XPS และการศึกษา XRD ยืนยันว่าฟิล์มออกไซด์ประกอบด้วย
Cu / Cu2O (NIO) / ออกไซด์ (NIO) / อากาศ Cu2O เป็นออกไซด์ที่สำคัญและอัตราส่วนความหนาของออกไซด์ / Cu2O เป็น
ประมาณ 0.28 ที่ 150 องศาเซลเซียสและ 0.34 ที่ 200 ° C การศึกษาเกี่ยวกับการเคลื่อนไหวในการเกิดออกซิเดชันแสดงให้เห็นว่าออกไซด์
เจริญเติบโตตามกฎอัตราพาราโบลาในช่วงอุณหภูมิ 150 ° C ถึง 300 ° C และเปิดใช้งาน
พลังงานสำหรับการเกิดออกซิเดชันทองแดงโดยรวม 71 กิโลจูล / โมล พลังงานยืนยันการใช้งานสำหรับออกไซด์ทองแดง

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

องค์ประกอบและจลนศาสตร์การเจริญเติบโตของฟิล์มออกไซด์ที่เกิดขึ้นในอากาศที่อุณหภูมิ 150 องศา C ถึง 300 องศา C ในฐานทองแดงเฟรมอัลลอย ศึกษาโดยใช้การเลี้ยวเบนรังสีเอกซ์ ) เครื่อง X-ray photoelectron spectroscopy ( XPS )และเทคนิคลด coulometric . XPS และ XRD การศึกษายืนยันว่าฟิล์มออกไซด์ คือทองแดง / cu2o ( นีโอ ) / 2 ( ( นีโอ ) / อากาศ cu2o เป็นไซด์ใหญ่และหนาเท่ากับ 2 ( / cu2o คือประมาณ 0.28 ° C 150 และ 200 องศา C 0.34 ในการศึกษาจลนศาสตร์ในปฏิกิริยาออกซิเดชัน พบว่า ออกไซด์อัตราการเจริญเติบโตตามรูปโค้งกฎหมายในช่วงอุณหภูมิ 150 องศา C ถึง 300 องศา C และเปิดใช้งานพลังงานสำหรับปฏิกิริยาออกซิเดชันทองแดงโดยรวมเป็น 71 kJ / mol การกระตุ้นพลังในที่ปนทองแดงออกไซด์