So far,for fabrication of thin film

So far,for fabrication of thin films on various substrates,several methods such as chemical vapor deposition(CVD),sol-gel,pulsed-laser deposition,electro-deposition,magnetron sputtering of target,wet chemical routes and other methods were used.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เพื่อห่างไกล ผลิตฟิล์มบางบนพื้นผิวต่าง ๆ วิธีการต่าง ๆ เช่นการสะสมไอสารเคมี (เกี่ยวกับ โซลเจล เลเซอร์สูงสะสม electro-สะสม magnetron พ่นของเป้าหมาย เปียกเคมีกระบวนการผลิต และวิธีการอื่น ๆ ที่ใช้

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เพื่อให้ห่างไกลสำหรับการผลิตของฟิล์มบางบนพื้นผิวต่าง ๆ หลายวิธีเช่นไอสารเคมีสะสม (CVD) โซลเจลสะสมชีพจรเลเซอร์ไฟฟ้าสะสมสปัตเตอร์แมกเป้าหมายเส้นทางเคมีเปียกและวิธีการอื่น ๆ ถูกนำมาใช้

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ดังนั้นไกล สร้างฟิล์มบาง ๆบนพื้นผิวต่างๆ หลายวิธี เช่น chemical vapor deposition ( CVD ) , โซล - เจล , พัล เลเซอร์ สะสม , electro deposition แมกนีตรอนสปัตเตอริงของเป้าหมายเส้นทางเคมีเปียกและวิธีการอื่น ๆใช้