2.5. Rockwell C adhesionAn Otto Wol

2.5. Rockwell C adhesion
An Otto Wolpert–Werke indenter was used for the Rockwell
C (max. load 1471 N) adhesion tests. Eventhough the Rockwell
C technique does not provide a quantitative evaluation of
coating adhesion, it can be used to establish a classification of
the quality of the adhesion. This kind of test is strongly
dependent on coating thickness and substrate hardness. Loading
the Rockwell tip generates damage next to the edge of the
indentation mark. DIN CEN/TS 1071-8 standard was used to
assess the damage and to rank the adhesion of different
coatings, using an optical microscope with 100:1 magnification
[24]. Three indentations were done on each sample. The
strength adhesion quality varies from HF1 to HF6. HF1 to HF4
define a sufficient adhesion, whereas HF5 and HF6 indicate
poor adhesion.
3. Results and discussion
3.1. Microstructure of the coatings deposited on Si
Fig. 2 shows SEM images of the reactively deposited TiNx
coatings with the Ti intermediate layers for conditions “A” as
defined in Table 1. All the microstructures can be described as a
dense array of clearly defined fibrous columnar grains, typical
of zone-T in the Thornton structure - zone model. Table 1 shows
that the increase in the nitrogen content of the reactive gas
decreases the deposition rate due to poisoning of the target by
the reactive gas [25–27]. Thus, the deposition time was
increased to maintain the thickness of the deposited films.
Fig. 3 shows microstructures of the samples B1, B2 and B3,
which also resemble zone-T in the Thornton structure-zone
model. On the other hand, the microstructure of the B4 sample
is lamellar and graphite has precipitated on the surface of the
sample. However, it is important to notice that no correlation
can be predicted between these microstructures and the ones of
coatings on steel substrate.
3.2. Nanoindentation and chemical composition
Table 4 shows nanohardness, Young modulus, thickness and
chemical composition of the coatings deposited on AISI H13
tool steel.
Reactive magnetron sputtering in the A2, A3 and A4
conditions led to the formation of TiN as shown in Table 4,
where the compositions of the films range from 45 to 49 at.% Ti.
Table 3
Treatment conditions used in the hybrid process
N2 flow (sccm) H2 flow (sccm) Ar flow (sccm) Time (min) Pressure (Torr) Temperature (0
C) Power (W) Current (A) Ton (μs) Toff (μs)
PVD-A2 2.0 xx 20.0 120.0 3.0 × 10−3 320 500 xx xx xx
Plasma nitriding 200 11.0 xx 60.0 3.5 520 330 1.4 70.0 160,0

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

2.5 ยึดเกาะร็อคเวลล์ Cใช้สำหรับร็อคเวลล์อาศัยการออตโต Wolpert – Werkeยึดเกาะ C (โหลดสูงสุดค.ศ. 1471 N) ทดสอบ ปล่อยร็อคเวลล์เทคนิค C มีการประเมินเชิงปริมาณเคลือบยึดเกาะ สามารถใช้ในการสร้างการจัดประเภทคุณภาพของการยึดเกาะ ชนิดของการทดสอบนี้เป็นอย่างยิ่งขึ้นอยู่กับความแข็งความหนาและพื้นผิวเคลือบ โหลดคำแนะนำของร็อคเวลล์สร้างความเสียหายอยู่ขอบของการเครื่องหมายย่อหน้า มาตรฐาน DIN TS CEN 1071-8 ถูกใช้ประเมินความเสียหายและการยึดเกาะของแตกต่างกันไม้แปรรูป การใช้กล้องจุลทรรศน์แสงการขยาย 100:1[24] สามย่อหน้าในแต่ละตัวอย่างทำ ที่แรงยึดติดคุณภาพตั้งแต่ HF1 ไปจนถึง HF6 HF1 เพื่อ HF4กำหนดยึดเพียงพอ โดย HF5 และ HF6 ระบุการยึดเกาะที่ดี3. ผลลัพธ์ และสนทนา3.1 การต่อโครงสร้างจุลภาคของเคลือบที่ฝากในศรีFig. 2 แสดงภาพใน SEM ของ TiNx reactively นำฝากไม้แปรรูปกับตี้กลางชั้นสำหรับเงื่อนไข "A" เป็นกำหนดในตารางที่ 1 Microstructures ทั้งหมดสามารถอธิบายเป็นการหนาแน่นหลากหลายอย่างชัดเจนข้อคอลัมน์ธัญพืช ทั่วไปของโซน-T ในธอร์นตันโครงสร้าง - แบบโซน ตารางที่ 1 แสดงที่เพิ่มขึ้นในเนื้อหาไนโตรเจนแก๊สปฏิกิริยาลดอัตราการสะสมเนื่องจากพิษของเป้าหมายด้วยปฏิกิริยาก๊าซ [25-27] ดังนั้น เวลาสะสมถูกเพิ่มขึ้นเพื่อรักษาความหนาของฟิล์มนำฝากFig. 3 แสดง microstructures อย่าง B1, B2 และ B3ซึ่งยังมีลักษณะโซน-T ในโครงสร้างโซนธอร์นตันแบบจำลอง ในทางกลับกัน ต่อโครงสร้างจุลภาคของอย่าง B4เป็น lamellar และแกรไฟต์มีตะกอนบนพื้นผิวของการตัวอย่างการ อย่างไรก็ตาม จะต้องสังเกตที่มีสามารถทำนายระหว่าง microstructures เหล่านี้และคนของเคลือบบนพื้นผิวเหล็ก3.2. องค์ประกอบที่ Nanoindentation และสารเคมีตาราง 4 แสดง nanohardness โมดูลัสของหนุ่มสาว ความหนา และองค์ประกอบทางเคมีของไม้แปรรูปที่ฝากกับ AISI H13เครื่องมือเหล็กปฏิกิริยา magnetron พ่นใน A2, A3 และ A4เงื่อนไขที่นำไปสู่การก่อตัวของดีบุกดังแสดงในตาราง 4ที่องค์ของภาพยนตร์ช่วงตั้งแต่ 45 ถึง 49 at.% ตี้ตาราง 3เงื่อนไขการรักษาที่ใช้ในการผสมขั้นตอน N2 (sccm) H2 ไหล (sccm) กระแส Ar (sccm) เวลา (นาที) อุณหภูมิความดัน (ธอร์) (0C) Toff ตัน (μs) ปัจจุบัน (A) พลังงาน (W) (μs)PVD A2 2.0 xx 20.0 120.0 3.0 × 10−3 320 500 xx xx xxพลาสม่าทำไนไตรด์ 200 11.0 xx 60.0 3.5 520 330 1.4 70.0 160,0

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

2.5 การยึดเกาะ Rockwell C
อ็อตโต Wolpert-Werke หัวกดใช้สำหรับ Rockwell
C (สูงสุด. โหลด 1471 N) การทดสอบการยึดเกาะ แม้ว่าถอดแบบเทคนิค C ไม่ได้ให้การประเมินผลเชิงปริมาณของการยึดเกาะเคลือบก็สามารถนำมาใช้ในการสร้างการจัดหมวดหมู่ของคุณภาพของการยึดเกาะที่ ชนิดของการทดสอบนี้เป็นอย่างมากขึ้นอยู่กับความหนาของสีและความแข็งพื้นผิว โหลดปลายถอดแบบมาสร้างความเสียหายต่อไปยังขอบของเครื่องหมายการเยื้อง DIN CEN / TS 1071-8 มาตรฐานถูกใช้ในการประเมินความเสียหายและการจัดอันดับการยึดเกาะของที่แตกต่างกันเคลือบโดยใช้กล้องจุลทรรศน์แสง 100: 1 ขยาย [24] เยื้องสามได้กระทำในแต่ละตัวอย่าง คุณภาพความแข็งแรงยึดเกาะที่แตกต่างกันจากการ HF1 HF6 HF1 เพื่อ HF4 กำหนดยึดเกาะที่เพียงพอในขณะที่ HF5 HF6 และบ่งบอกถึงการยึดเกาะที่ไม่ดี. 3 และการอภิปรายผล3.1 จุลภาคของสารเคลือบที่ฝากในศรีรูป 2 แสดงภาพ SEM ของฝาก reactively TiNx เคลือบด้วยชั้นกลาง Ti สำหรับเงื่อนไข "A" ในขณะที่กำหนดไว้ในตารางที่1 จุลภาคทั้งหมดสามารถอธิบายว่าเป็นอาร์เรย์หนาแน่นกำหนดไว้อย่างชัดเจนธัญพืชเสาเส้นใยทั่วไปของโซนT ใน โครงสร้าง Thornton - รูปแบบโซน ตารางที่ 1 แสดงให้เห็นว่าการเพิ่มขึ้นของปริมาณไนโตรเจนของก๊าซปฏิกิริยาลดลงอัตราการปลูกเนื่องจากเป็นพิษของเป้าหมายโดยก๊าซปฏิกิริยา[25-27] ดังนั้นเวลาที่สะสมได้เพิ่มขึ้นเพื่อรักษาความหนาของฟิล์มฝากที่. รูป 3 แสดงจุลภาคของตัวอย่าง B1, B2 และ B3, ซึ่งยังมีลักษณะคล้ายกับโซน T ในเขตโครงสร้างทอร์นตันรูปแบบ ในทางกลับกันจุลภาคของกลุ่มตัวอย่าง B4 ที่เป็นlamellar และกราไฟท์ได้ตกตะกอนบนพื้นผิวของตัวอย่าง แต่ก็เป็นสิ่งสำคัญที่จะสังเกตเห็นว่าไม่มีความสัมพันธ์สามารถคาดการณ์ระหว่างจุลภาคเหล่านี้และคนของเคลือบบนพื้นผิวเหล็ก. 3.2 nanoindentation และองค์ประกอบทางเคมีตารางที่4 แสดงให้เห็น nanohardness, มอดุลัสความหนาและองค์ประกอบทางเคมีของสารเคลือบที่ฝากในAISI H13 เหล็กเครื่องมือ. ปฏิกิริยาสปัตเตอร์แมกใน A2, A3 และ A4 เงื่อนไขนำไปสู่การก่อตัวของ TiN ดังแสดงในตารางที่ 4 ที่ องค์ประกอบของภาพยนตร์ช่วง 45-49 ที่.% Ti. ตารางที่ 3 เงื่อนไขการรักษาใช้ในกระบวนการไฮบริดไหล N2 (SCCM) กระแส H2 (SCCM) กระแสเท่น (SCCM) เวลา (นาที) แรงดัน (Torr) อุณหภูมิ (0 C) พลังงาน (W) ปัจจุบัน () ตัน (ไมโครวินาที) Toff (ไมโครวินาที) PVD-A2 2.0 x ยาว x 20.0 120.0 3.0 × 10-3 320 500 XX XX XX พลาสม่าไนไตรด์ 200 11.0 x ยาว x 60,0 3,5 520 330 1,4 70,0 160,0

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

2.5 Rockwell C ยึด
การโต้โวลเพิร์ต ( werke หัวกดถูกใช้สำหรับ Rockwell
C ( แม็กซ์ โหลด . n ) การทดสอบการยึดเกาะ แม้ Rockwell
c เทคนิคไม่ให้การประเมินผลเชิงปริมาณของ
เคลือบเกาะติด มันสามารถใช้ในการสร้างหมวดหมู่ของ
คุณภาพของการยึดเกาะ ทดสอบนี่ขอ
ขึ้นอยู่กับความหนา ความแข็ง ทนทาน โหลด
ปลาย Rockwell สร้างความเสียหายติดกับขอบของ
รอยมาร์ค ดินศูนย์ / TS 1071-8 มาตรฐานใช้
ประเมินความเสียหายและตำแหน่งยึดเกาะของเคลือบที่แตกต่างกัน
, การใช้กล้องจุลทรรศน์แบบแสงกับสามารถขยาย
[ 24 ] สามเยื้องเสร็จในแต่ละตัวอย่าง
แรงยึดติดคุณภาพแตกต่างกันจาก hf1 เพื่อ hf6 . hf1 เพื่อ hf4
นิยามการเพียงพอและในขณะที่ hf5 hf6 บ่งชี้
การยึดติดไม่ดี
3 ผลและการอภิปราย
3.1 . โครงสร้างจุลภาคของผิวเคลือบเงินศรี
รูปที่ 2 แสดงภาพ SEM ของ reactively ฝาก tinx
เคลือบด้วย Ti กลางชั้นสำหรับเงื่อนไข " "
กำหนดในตารางที่ 1 โครงสร้างทั้งหมดสามารถอธิบายเป็นอาร์เรย์ของ
หนาแน่นไว้อย่างชัดเจน โดยทั่วไป
เส้นใยธัญพืชของ zone-t ในโครงสร้าง - ธอร์นตันแบบโซน ตารางที่ 1 แสดง
ที่เพิ่มปริมาณไนโตรเจนของปฏิกิริยาก๊าซ
ลดอัตราการสะสม เพราะพิษของเป้าหมายโดย
ปฏิกิริยาก๊าซ [ 25 – 27 ] ดังนั้น การสะสมเวลา
เพิ่มขึ้นเพื่อรักษาความหนาของฝากภาพยนตร์
รูปที่ 3 แสดงโครงสร้างจุลภาคของตัวอย่าง B1 , B2 และ B3
ซึ่งก็คล้าย zone-t ใน Thornton โครงสร้างโซน
นางแบบ บนมืออื่น ๆ , โครงสร้างจุลภาคของ B4
คือตัวอย่างการทและแกรไฟต์ได้ตกตะกอนบนพื้นผิวของ
ตัวอย่าง อย่างไรก็ตาม , มันเป็นสิ่งสำคัญที่จะสังเกตเห็นว่าไม่มีความสัมพันธ์ระหว่างโครงสร้างจุลภาค
สามารถคาดการณ์เหล่านี้ และตัวเคลือบบนแผ่นเหล็ก
.
2 . องค์ประกอบทางเคมีและ nanoindentation
ตารางที่ 4 แสดง nanohardness ยังโมดูลัส ความหนา และองค์ประกอบทางเคมีของผิวเคลือบ
ฝากไว้ในเหล็กกล้าเครื่องมือ h13

รีแอคทีฟแมกนีตรอนสปัตเตอริงใน AISI . A2 , A3 และเงื่อนไข A4
นำไปสู่การก่อตัวของทิน ดังแสดงในตารางที่ 4 ,
ที่องค์ประกอบของภาพยนตร์ตั้งแต่ 45 ถึง 49 % ที่ ตารางที่ 3 Ti .

รักษาสภาวะที่ใช้ใน
กระบวนการไฮบริด( sccm ) H2 N2 ไหลไหลไหล sccm ) AR ( sccm ) เวลา ( นาที ) แรงดัน ( ทอร์ ) อุณหภูมิ ( 0
c ) พลังงาน ( W ) ในปัจจุบัน ( ) ตัน ( μคนชั้นสูง ( s ) μ S )
pvd-a2 2.0 X 20.0 3.0 × 10 − 3 120.0 320 500 XX XX XX
พลาสมา nitriding 200 11.0 xx 60.0 3.5 520 330 1.4 70.0 160,0