The ability of ALD deposited TiO2 s

The ability of ALD deposited TiO2 surface coatings to protect
BOPP film against UV induced photodegradation was investigated.
The coatings were produced from TDMAT and ozone precursors
in a low-temperature ALD process having the process temperature
(80 ◦C) clearly below the substrate’s melting point. The results
showed that the 36 nm TiO2 layer as measured on silicon samples
provided a moderate and the 67 nm layer significant UV protection
for BOPP. It is also demonstrated that there is a significant difference
in the thickness of films on BOPP compared to silicon because of an
extended nucleation period which needs to be taken into account
when estimating the thickness. According to IR analysis, the 67 nm
coating was able to largely prevent the formation of the main photodegradation
products in BOPP after a 6-week UV exposure. DSC
analysis showed that neither the UV treatment nor the TiO2 coating
process affected the degree of crystallinity in BOPP. However,
the melting behaviour of samples indicated that the TiO2 coating
protected the BOPP film from UV degradation.
According to the mechanical strength test, the protection provided
by the TiO2 coatings was significant when compared to
the uncoated samples but the mechanical properties of all of the
samples were reduced to a greater or lesser extent. For better protection,
it is possible to use higher coating thicknesses, lower band
gap materials or multilayer coatings, but the suitability of these
coatings in the large scale ALD coating processes for flexible substrates
should be investigated. In conclusion, further research is
recommended in the area of UV protective ALD coatings to confirm
the effectiveness of the coatings in the UV protection of flexible
polymer films.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ความสามารถของ ALD ฝาก TiO2 เคลือบผิวปกป้อง
ฟิล์มบอปป์กับ UV เกิด photodegradation ถูกสอบสวน
เคลือบที่ผลิตจาก TDMAT และโอโซน precursors
ในกระบวน ALD อุณหภูมิต่ำมีอุณหภูมิกระบวนการ
(80 ◦C) ด้านล่างพื้นผิวชัดเจนของละลายจุด ผล
พบว่าชั้นของ nm TiO2 36 วัดในตัวอย่างซิลิคอน
ปานกลางและที่ 67 nm ชั้นสำคัญกันแดด
สำหรับบอปป์ แต่ยังจะแสดงว่า มีความแตกต่างอย่างมีนัยสำคัญ
ในความหนาของฟิล์มในบอปป์เมื่อเทียบกับซิลิกอนเนื่องจากมี
nucleation ขยายรอบระยะเวลาที่ต้องนำมาพิจารณา
เมื่อประเมินความหนา ตามการวิเคราะห์ IR, 67 nm
เคลือบได้เพื่อป้องกันการก่อตัวของ photodegradation หลักใหญ่
ผลิตภัณฑ์ในบอปป์หลังรังสี 6 สัปดาห์ DSC
วิเคราะห์พบว่าไม่มีการรักษา UV หรือเคลือบ TiO2
กระบวนการได้รับผลกระทบระดับ crystallinity ในบอปป์ อย่างไรก็ตาม,
ระบุพฤติกรรมการละลายของตัวอย่างที่เคลือบ TiO2
ป้องกันฟิล์มบอปป์จาก UV ลดการ
ตามทดสอบความแข็งแรงทางกล การป้องกันให้
โดย TiO2 เคลือบได้อย่างมีนัยสำคัญเมื่อเทียบกับ
ตัวอย่างเคลือบแต่คุณสมบัติทางกลทั้งหมด
อย่างถูกลดระดับมากกว่า หรือน้อยกว่า สำหรับการป้องกันที่ดีกว่า,
จำเป็นต้องใช้ความหนาของเคลือบสูง ต่ำกว่าวง
ช่องว่างของวัสดุ หรือการเคลือบหลายชั้น แต่ความเหมาะสมเหล่านี้
ไม้แปรรูปในกระบวนการเคลือบ ALD ขนาดใหญ่สำหรับพื้นผิวยืดหยุ่น
ควรถูกตรวจสอบ เบียดเบียน ต่อการวิจัยเป็น
แนะนำบริเวณเคลือบ ALD ป้องกัน UV เพื่อยืนยัน
ประสิทธิภาพของเคลือบในการป้องกัน UV ของยืดหยุ่น
ฟิล์มพอลิเมอร์

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ความสามารถในการ ALD ฝากเคลือบผิว TiO2 เพื่อปกป้อง
ฟิล์ม BOPP กับรังสี UV สลายถูกตรวจสอบ
การเคลือบผิวที่ผลิตจาก TDMAT และโอโซนสารตั้งต้น
ในกระบวนการมรกตอุณหภูมิต่ำที่มีอุณหภูมิกระบวนการ
(80 ◦C) อย่างชัดเจนด้านล่างจุดหลอมเหลวของสารตั้งต้น . ผลการ
ศึกษาพบว่าชั้น TiO2 36 นาโนเมตรเป็นวัดตัวอย่างซิลิกอน
ที่มีให้ในระดับปานกลางและ 67 นาโนเมตรชั้นป้องกันรังสียูวีอย่างมีนัยสำคัญ
สำหรับ BOPP นอกจากนี้ยังแสดงให้เห็นว่ามีความแตกต่างอย่างมีนัยสำคัญ
ในความหนาของฟิล์มที่ BOPP เมื่อเทียบกับซิลิกอนเนื่องจาก
ระยะเวลาที่นิวเคลียสขยายที่จะต้องนำมาพิจารณา
เมื่อประมาณการความหนา ตามการวิเคราะห์ IR, 67 นาโนเมตร
เคลือบก็สามารถที่จะส่วนใหญ่ป้องกันการก่อตัวของสลายหลัก
ผลิตภัณฑ์ใน BOPP หลังจากการสัมผัสรังสียูวี 6 สัปดาห์ DSC
การวิเคราะห์แสดงให้เห็นว่าทั้งการรักษารังสียูวีหรือเคลือบ TiO2
กระบวนการรับผลกระทบระดับของผลึกใน BOPP อย่างไรก็ตาม
การละลายพฤติกรรมของกลุ่มตัวอย่างชี้ให้เห็นว่าการเคลือบ TiO2
ป้องกันฟิล์ม BOPP จากการย่อยสลายรังสียูวี
ตามที่การทดสอบความแข็งแรงทางกลการป้องกันที่มีให้
โดยการเคลือบ TiO2 ได้อย่างมีนัยสำคัญเมื่อเปรียบเทียบกับ
กลุ่มตัวอย่างที่ไม่เคลือบผิว แต่สมบัติเชิงกลของทั้งหมดของ
กลุ่มตัวอย่างลดลงในระดับที่มากหรือน้อย สำหรับการป้องกันที่ดีกว่า
ก็เป็นไปได้ที่จะใช้ความหนาสูงเคลือบวงดนตรีที่ต่ำกว่า
วัสดุที่ทำให้เกิดช่องว่างหรือการเคลือบหลายชั้น แต่ความเหมาะสมของเหล่านี้
เคลือบในกระบวนการเคลือบขนาดมรกตขนาดใหญ่สำหรับพื้นผิวที่มีความยืดหยุ่น
ควรได้รับการตรวจสอบ สรุปได้ว่าการวิจัยต่อไปจะ
แนะนำในพื้นที่ของรังสียูวีเคลือบ ALD ป้องกันเพื่อยืนยัน
ประสิทธิภาพของการเคลือบในการป้องกันรังสียูวีที่มีความยืดหยุ่น
ฟิล์มพอลิเมอ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ความสามารถของ ald ฝากเคลือบผิว TiO2 เพื่อปกป้องฟิล์ม BOPP กับการใช้แสงยูวี

ศึกษาเคลือบที่ผลิตจาก tdmat และโอโซนในอุณหภูมิตั้งต้น
ald กระบวนการมีอุณหภูมิ
( 80 ◦ C ) ชัดเจนด้านล่างของพื้นผิวจุดหลอมเหลว ผลลัพธ์
พบว่า 36 nm ) เลเยอร์เป็นวัดตัวอย่าง
ซิลิคอนให้ข้อมูล และที่สำคัญป้องกัน UV 67 nm .
สำหรับ BOPP . นอกจากนี้ยังพบว่ามี
ความแตกต่างในความหนาของฟิล์ม BOPP เมื่อเทียบกับบนซิลิคอน เพราะการขยายระยะเวลา
nucleation ซึ่งต้องเข้าบัญชี
เมื่อคำนวณความหนา ตามการวิเคราะห์ IR , 67 nm
เคลือบถูกสามารถไปป้องกันการก่อตัวของผลิตภัณฑ์หลักในการย่อยสลายด้วยแสง
BOPP หลังจาก 6 สัปดาห์ UV แสง การวิเคราะห์ DSC
พบว่าทั้ง UV รักษาหรือเคลือบ TiO2
กระบวนการส่งผลต่อระดับความเป็นผลึกในบอปป์ . อย่างไรก็ตาม ละลายพฤติกรรม
ตัวอย่าง พบว่า ฟิล์มป้องกันเคลือบ TiO2

จากการย่อยสลาย UVจากการทดสอบความแข็งแรงเชิงกล คุ้มครองให้
โดยเคลือบ TiO2 อย่างมีนัยสำคัญทางสถิติเมื่อเปรียบเทียบกับตัวอย่างที่ไม่เคลือบผิว
แต่คุณสมบัติเชิงกลของ
จำนวนลดลงในระดับมากหรือน้อย . สำหรับการป้องกันดีกว่า
ก็เป็นไปได้ที่จะใช้เคลือบหนาขึ้น ลดช่องว่างหรือวัสดุเคลือบหลายชั้นวง

แต่ความเหมาะสมของเหล่านี้เคลือบในกระบวนการขนาดใหญ่เคลือบพื้นผิวมีความยืดหยุ่นสำหรับ ald
ควรตรวจสอบ สรุป การวิจัยเป็น
แนะนำในพื้นที่ของ UV ป้องกัน ald เคลือบ เพื่อยืนยัน
ประสิทธิผลของไม้แปรรูปในการป้องกันรังสียูวีของฟิล์มพอลิเมอร์ที่ยืดหยุ่นได้