Using the photoresist as an etching

Using the photoresist as an etching mask, the silicon underneath is etched with SF6 plasma

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

โดยใช้สารไวแสงเป็นหน้ากากกัดซิลิคอนใต้เป็นสลักด้วย SF6 พลาสม่า

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ใช้ photoresist ที่เป็นรูปแบบการกัด ซิลิคอนใต้ถูกสลัก ด้วยพลาสมา SF6

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การใช้ photoresist หน้ากากที่เป็นการทำแม่พิมพ์ซิลิกอนที่อยู่ใต้มีรอยสลักที่พร้อมด้วย 6 จอพลาสม่า SF