EXPERIMENTAL SECTIONFigure 1 schema

EXPERIMENTAL SECTION
Figure 1 schematically depicts the growth and processing steps
that were utilized in this work. Before sputtering, the PET
substrates were cleaned with ethanol and deionized water in an
ultrasonic cleaner, and then baked at 100 °C for 10 min to
remove moisture. AZO (Al-doped ZnO) seed layers were
deposited on PET using a RF magnetron sputtering method.
The thickness of the AZO film was approximately 50 nm. The
ZnO nanowires were hydrothermally grown at 95 °C in a
sealed beaker by immersing the PET substrates for 6 h in the
aqueous solution of 0.06 M zinc nitrate hexhydrate [Zn-
(NO3)2] and 0.06 M hexamethylenetetramine (C6H12N4). The
Zn(NO3)2/C6H12N4 molar ratio was always 1:1. Hexamethylenetetramine
(HMTA) is a highly water-soluble, nonionic
tetradentate cyclic tertiary amine. Thermal degradation of
HMT releases hydroxyl ions, which react with Zn2+ ions to
form ZnO. The crystal growth of ZnO nanowires involves the
following chemical reactions

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ส่วนการทดลองรูปที่ 1 แสดงให้เห็นขั้นตอนการเจริญเติบโตและการประมวลผล schematicallyที่ถูกนำมาใช้ในการทำงานนี้ ก่อนพ่น PETพื้นผิวถูกทำความสะอาด ด้วยเอทานอล และ deionized น้ำในการทำความสะอาดอัลตราโซนิก และอบที่ 100 ° C สำหรับ 10 นาทีไปแล้วเอาความชื้นออก AZO (ZnO Al doped) เมล็ดชั้นได้ฝากใน PET ใช้ magnetron RF การพ่นวิธีความหนาของฟิล์ม AZO มีประมาณ 50 นาโนเมตร ที่ZnO nanowires มี hydrothermally ปลูกที่ 95 ° C ในการบีกเกอร์ที่ปิดผนึก โดยแช่วัสดุ PET สำหรับ h 6 ในการละลายของ 0.06 M สังกะสีไนเตรต hexhydrate [Zn-(NO3) 2] และ 0.06 M hexamethylenetetramine (C6H12N4) ที่Zn (NO3) 2/C6H12N4 สบอัตราส่วนเป็น 1:1 เสมอ Hexamethylenetetramine(HMTA) เป็นความสูงที่ละลายใน nonionictetradentate วัฏจักรต่อ amine ลดความร้อนของHmt ทำปล่อยประจุ ไฮดรอกซิลซึ่งทำปฏิกิริยากับ Zn2 + กันไปฟอร์ม ZnO เกี่ยวข้องกับการเจริญเติบโตของผลึกของ ZnO nanowiresปฏิกิริยาเคมีต่อไปนี้

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ส่วนการทดลอง
รูปที่ 1 แผนผังแสดงให้เห็นขั้นตอนการเจริญเติบโตและการประมวลผล
ที่ถูกนำมาใช้ในงานนี้ ก่อนที่สปัตเตอร์, PET
พื้นผิวที่ได้รับการทำความสะอาดด้วยเอทานอลและน้ำปราศจากไอออนใน
การทำความสะอาดอัลตราโซนิกและแล้วอบที่ 100 องศาเซลเซียสเป็นเวลา 10 นาทีในการ
ลบความชุ่มชื้น AZO (อัลเจือ ZnO) ชั้นเมล็ดถูก
วางลงบน PET โดยใช้คลื่นความถี่วิทยุแมกวิธีสปัตเตอร์.
ความหนาของฟิล์ม AZO ประมาณ 50 นาโนเมตร
ซิงค์ออกไซด์ nanowires มีปลูก hydrothermally ที่ 95 ° C ใน
บีกเกอร์ที่ปิดสนิทโดยการแช่พื้นผิว PET เวลา 6 ชั่วโมงใน
สารละลาย 0.06 M สังกะสีไนเตรต hexhydrate [ZN-
(NO3) 2] และ 0.06 M Hexamethylenetetramine (C6H12N4)
Zn (NO3) 2 / C6H12N4 อัตราส่วนโดยโมเสมอ 1: 1 Hexamethylenetetramine
(HMTA) เป็นอย่างสูงที่ละลายน้ำไม่มีประจุ
tetradentate เอตติยวงจร การสลายตัวของ
HMT ปล่อยไอออนไฮดรอกซึ่งทำปฏิกิริยากับไอออน Zn2 + เพื่อ
รูปแบบซิงค์ออกไซด์ การเจริญเติบโตของผลึกของ nanowires ซิงค์ออกไซด์ที่เกี่ยวข้องกับการ
เกิดปฏิกิริยาทางเคมีต่อไปนี้

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ส่วนรูปที่ 1 แสดงแผนผังการทดลอง

การเจริญเติบโตและกระบวนการที่ใช้ในงานนี้ ก่อนทำงาน , สัตว์เลี้ยง
พื้นผิวสะอาดด้วยน้ำและเอทานอลคล้ายเนื้อเยื่อประสานใน
ultrasonic cleaner แล้วอบที่อุณหภูมิ 100 องศา C เป็นเวลา 10 นาที

เอาความชื้น ( อะโซลด้วยเช่นกัน ) เมล็ดพันธุ์ชั้นมี
ฝากสัตว์เลี้ยงที่ใช้แมกนีตรอนสปัตเตอริง
RF วิธีความหนาของฟิล์ม : ประมาณ 50 nm . นาโนซิงค์ออกไซด์ (
hydrothermally โตที่ 95 องศา C ใน
ปิดบีกเกอร์โดยแช่สัตว์เลี้ยงจำนวน 6 H ใน
สารละลายของไนเตรท hexhydrate 0.06 เมตรสังกะสี Zn -
( 3 ) [ 2 ] และ 0.06 เมตร hexamethylenetetramine ( c6h12n4 )
Zn ( 2 / 3 ) c6h12n4 อัตราส่วนโมลเป็น 1 : 1 hexamethylenetetramine
( hmta ) เป็นอย่างสูงที่ละลายน้ำชนิด
เตตระเดนเทตไซคลิกเอมีนตติย . การสลายตัวทางความร้อนของ
HMT รุ่นไฮดรอกซิล ไอออน ซึ่งทำปฏิกิริยากับไอออนของสังกะสีออกไซด์ zn2

แบบฟอร์ม ส่วนการเติบโตของผลึกนาโนซิงค์ออกไซด์ที่เกี่ยวข้องกับ
ต่อปฏิกิริยาเคมี